[实用新型]基于面阵列X光源的血液辐照系统

权利要求书

1.一种基于面阵列X光源的血液辐照系统，其特征在于，所述血液辐照系统包括：X射线屏蔽罩，高压发生器，中低压电源，水冷机，工控机，人机交互装置及设置在所述X射线屏蔽罩内的两个面阵列X光源、两个滤过器、一血袋架；其中，

两个所述面阵列X光源相对设置在所述血袋架的两侧；两个滤过器相对设置，且分别位于两个所述面阵列X光源的相对的两侧，以对所述面阵列X光源发射的X射线进行低能过滤；所述血袋架设置于所述两个滤过器之间，用于放置待辐照血制品；

所述高压发生器、所述中低压电源、所述水冷机分别连接至两个所述面阵列X光源及所述工控机；所述人机交互装置连接至所述工控机，以控制所述高压发生器、所述中低压电源及所述水冷机的工作状态。

2.如权利要求1所述的基于面阵列X光源的血液辐照系统，其特征在于，所述血液辐照系统包括一控制箱，所述高压发生器、所述中低压电源、所述水冷机及所述工控机设置在所述控制箱中。

3.如权利要求1所述的基于面阵列X光源的血液辐照系统，其特征在于，所述面阵列X光源为由M×N个所述X射线子发射单元排列组成的M×N阵列，其中M和N为整数，M≥1，N≥1。

4.如权利要求3所述的基于面阵列X光源的血液辐照系统，其特征在于，所述X射线子发射单元包括阴极、栅极及阳极；

其中，在所述阴极和所述栅极之间的偏置电压作用下，所述阴极因场致电子发射效应而发射电子束，所述电子束轰击所述阳极发射X射线；所述人机交互装置根据所述阴极的发射电流调整栅极电压使所述发射电流为一恒定电流值。

5.如权利要求4所述的基于面阵列X光源的血液辐照系统，其特征在于，所述X射线子发射单元包括聚焦极，所述聚焦极聚焦所述阴极发射的电子束，聚焦后的所述电子束轰击所述阳极发射X射线。

6.如权利要求3所述的基于面阵列X光源的血液辐照系统，其特征在于，所述X射线子发射单元包括阴极和阳极；

其中，所述阳极接地，所述阴极接负高压；在所述阴极和所述阳极之间的偏置电压作用下，所述阴极因场致电子发射效应而发射电子束，所述电子束轰击所述阳极发 射X射线；所述人机交互装置根据所述阴极的发射电流调整阴极电压使所述发射电流为一恒定电流值。

7.如权利要求5所述的基于面阵列X光源的血液辐照系统，其特征在于，所述阴极接地，所述栅极电压的范围为2kv至5kv，聚焦极电压小于所述栅极电压，阳极电压为120kv至160kv范围内的一正电压。

8.如权利要求5所述的基于面阵列X光源的血液辐照系统，其特征在于，所述血液辐照系统还包括一真空腔室，用于真空密封所述阴极、所述栅极、所述聚焦极及所述阳极；所述真空腔室为玻璃封装腔室、金属陶瓷封装腔室或金属真空腔室；所述真空腔室的真空度为10^-6～10^-11毫米汞柱；所述阳极通过陶瓷或云母与所述金属陶瓷封装腔室绝缘。

9.如权利要求6所述的基于面阵列X光源的血液辐照系统，其特征在于，所述血液辐照系统还包括一真空腔室，用于真空密封所述阴极和阳极；所述真空腔室为玻璃封装腔室、金属陶瓷封装腔室或金属真空腔室；所述真空腔室的真空度为10^-6～10^-11毫米汞柱。

10.如权利要求4至6任一项所述的基于面阵列X光源的血液辐照系统，其特征在于，所述阳极为透射靶或反射靶，所述透射靶的厚度小于100微米，由钨或银材料制成。

11.如权利要求8或9所述的基于面阵列X光源的血液辐照系统，其特征在于，所述真空腔室中还设置有水冷装置，设于所述阳极远离所述阴极的一侧，并连接所述水冷机；所述水冷装置由聚乙烯材料制成。

12.如权利要求4至6任一项所述的基于面阵列X光源的血液辐照系统，其特征在于，所述阴极为碳纳米管阴极。

13.如权利要求12所述的基于面阵列X光源的血液辐照系统，其特征在于，所述碳纳米管阴极上设有碳纳米管阵列，所述碳纳米管阵列由化学气相沉积法或电泳法制备得到。