[实用新型]一种PVD真空离子镀膜机

说明书

技术领域

本实用新型属于镀膜机技术领域，特别涉及一种PVD真空离子镀膜机。

背景技术

物理气相沉积(PVD)是通过蒸发，电离或溅射等过程，产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面。物理气相沉积镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。

其中，真空离子镀膜是借助于惰性气体辉光放电，使镀料（如金属钛）气化蒸发离子化，离子经电场加速，以较高能量轰击工件表面，此时如通入C2H2、N2等反应气体，便可在工件表面获得TiC、TiN覆盖层，硬度高达2000HV。真空离子镀膜的重要特点是沉积温度只有500℃左右，且覆盖层附着力强。近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是最快的，它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。

然而现有的真空离子镀膜机结构复杂、镀膜效果不理想、维护难度大。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：针对现有技术的不足，而提供一种结构简单、镀膜效果理想、维护难度小的PVD真空离子镀膜机。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种PVD真空离子镀膜机，包括真空泵、镀膜箱体和转架，所述镀膜箱体设置有镀膜腔，所述真空泵与所述镀膜腔连通，所述转架设置于所述镀膜腔内，在对应所述转架位置的所述镀膜腔侧壁上设置有等离子体弧源。

作为本实用新型所述的PVD真空离子镀膜机的一种改进，转架包括顶盘、主轴、底盘和装料盘，所述底盘的底端设置有驱动电机，所述主轴的一端穿过所述底盘且所述驱动电机的输出端连接，所述主轴的另一端转动连接于所述顶盘，在所述顶盘和所述底盘之间设置有定杆和转杆，所述装料盘安装于所述转杆。

作为本实用新型所述的PVD真空离子镀膜机的一种改进，所述装料盘包括托盘和设置于所述托盘的套筒，所述托盘设置为圆形结构，所述套筒的数量设置为多个，多个所述套筒均匀的分布于所述托盘的边缘，每个所述套筒的底部均设置有旋转齿轮。

作为本实用新型所述的PVD真空离子镀膜机的一种改进，在所述定杆上设置有拨片装置，所述拨片装置包括驱动部和拨片，所述驱动部控制所述拨片拨动所述装料盘旋转。

作为本实用新型所述的PVD真空离子镀膜机的一种改进，所述真空泵包括机械泵、罗茨泵和分子泵，所述机械泵、所述罗茨泵和所述分子泵依次通过抽气管道连通，所述分子泵设置于所述镀膜箱体的顶部，在所述罗茨泵和所述分子泵之间的所述抽气管道通过预抽阀与所述镀膜腔连通。

作为本实用新型所述的PVD真空离子镀膜机的一种改进，所述分子泵的底部设置有插板阀。

本实用新型的有益效果在于：本实用新型包括真空泵、镀膜箱体和转架，镀膜箱体设置有镀膜腔，真空泵与镀膜腔连通，转架设置于镀膜腔内，在对应转架位置的镀膜腔侧壁上设置有等离子体弧源。将需要镀膜的工具模具放置在转架上，开启真空泵使腔体达到真空镀膜状态，进而开启镀膜腔内的等离子体弧源工作，从而实现对转架上的工具模具进行镀膜；本实用新型的结构简单、镀膜效果理想、维护难度小。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面结合具体实施方式和说明书附图，对本实用新型作进一步详细的描述，但本实用新型的实施方式不限于此。

如图1所示，一种PVD真空离子镀膜机，包括真空泵1、镀膜箱体2和转架3，镀膜箱体2设置有镀膜腔21，真空泵1与镀膜腔21连通，转架3设置于镀膜腔21内，在对应转架3位置的镀膜腔21侧壁上分别设置有等离子体弧源4，等离子体弧源4为镀膜提供了材料来源。本实用新型的等离子体弧源4包括有靶材5，通过等离子体弧源4的激发将靶材5沉积在需涂覆的产品上，靶材5是高速荷能粒子轰击的目标材料。