[实用新型]真空处理设备有效
| 申请号： | 201520295524.8 | 申请日： | 2015-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN204644463U | 公开（公告）日： | 2015-09-16 |
| 发明（设计）人： | 约亨·克劳瑟 | 申请（专利权）人： | 冯·阿登纳有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/54 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 刘明海;杨生平 |
| 地址： | 德国德*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 处理 设备 | ||
1.一种真空处理设备(100)，其包括：
室壳体(102)，具有在室壳体(102)上侧中的开口(111)，用于容纳室盖(104)；
室盖(104)，用于盖住室壳体(102)的开口(111)；
在室壳体(102)上的第一前级真空供应结构(108a)；
在室盖(104)上的第二前级真空供应结构(108b)，
其中第一前级真空供应结构(108a)和第二前级真空供应结构(108b)这样地设置，即它们在室盖(104)关闭时自动地真空密封地相互偶联。
2.根据权利要求1所述的真空处理设备，还包括：
在室盖(104)上的至少一个高真空泵(106)，其中所述至少一个高真空泵(106)与第二前级真空供应结构(108b)偶联。
3.根据权利要求1所述的真空处理设备，
其中第一前级真空供应结构(108a)具有第一密封法兰(210a)和其中第二前级真空供应结构(108b)具有第二密封法兰(210b)，并且其中两个密封法兰(210a，210b)这样地设置，即它们在室盖(104)关闭时自动地真空密封地相互偶联。
4.根据权利要求3所述的真空处理设备，
其中第一密封法兰(210a)和/或第二密封法兰(210b)具有至少一个密封件(212)，用于在室盖(104)关闭时密封两个密封法兰(210a，210b)之间的间隙。
5.根据权利要求4所述的真空处理设备，
其中所述至少一个密封件(212)具有至少一个唇密封部。
6.根据权利要求4所述的真空处理设备，
其中所述至少一个唇密封部(212)含有硅胶或由硅胶构成。
7.根据权利要求1所述的真空处理设备，
其中室盖(104)可旋转地被支承并这样地设置，即其可以借助于旋转移动(320)被打开和/或被关闭。
8.根据权利要求1所述的真空处理设备，
其中室盖(104)这样地设置，即其在关闭状态下松散地置于室壳体(102)中。
9.根据权利要求1所述的真空处理设备，还包括：
至少一个前级真空泵组件，其与第一前级真空供应结构(108a)连接，用于借助于第一前级真空供应结构为室壳体(102)提供前级真空。
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