[实用新型]一种遮挡杂散X光的装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种光学试验辅助装置，尤其涉及一种遮挡杂散X光的装置。

背景技术

接近光速的电子在储存环内做周期性运动，在磁场的作用下电子的运动方向会发生改变，并沿运动的切线方向发出电磁辐射，这种辐射被称为同步辐射。利用同步辐射装置可以获得高亮度的X光。这种X光与普通X光机得到的X光相比，具有亮度高、方向集中、波长连续等优点。目前，同步辐射装置已经在材料、能源、生物、环境、医疗等多种学科领域获得广泛应用。

同步辐射硬X射线微聚焦实验方法是对同步辐射装置产生的硬X射线进行聚焦，利用焦点的小尺度获得高空间分辨能力的实验方法。一般是利用KB镜或者波带片将数百微米的X射线聚焦到几个微米或更小尺寸。聚焦后的X光可以进行吸收、衍射、成像等多种实验，在微观尺度的科学研究中有广泛应用。进行微聚焦实验时，焦斑的大小及形状对实验结果有至关重要的影响。在聚焦过程中，入射X光经过限制狭缝，通过各仪器设备的通光窗口，照射到KB镜或波带片上的污染物等等过程都会带来杂散光，这些会杂散光影响聚焦光斑质量，降低实验的精度与信噪比。

现有技术中，消除杂散光一般使用杂散光去除装置。传统的杂散光去除装置使用支杆将一个固定孔径的光阑支撑到光路上，安装完成后光阑完全固定，从而不能根据需要换用不同孔径的光阑，也无法调节光阑的姿态。另外，为保证聚焦光可以顺利通过光阑，传统的杂散光去除装置使用的光阑孔径远远大于聚焦光尺寸，因此仅可以滤去远离光路的杂散光，而不能过滤光路附近的杂散光。由此可见，传统的杂散光去除装置遮光效果不佳，聚焦光斑噪声较大，在进行精细实验时遇到局限。

实用新型内容

为了解决上述现有技术存在的问题，本实用新型旨在提供一种遮挡杂散X光的装置，以实现对自身姿态的自由调节，并可以根据实验需要自由移动以及可更换不同的钽片光阑，从而高效遮挡实验中的杂散X光，扩大应用范围。

本实用新型所述的一种遮挡杂散X光的装置，其包括：

可伸缩的组合支架；

光阑底座，其固定连接于所述组合支架；

光阑顶座，其可拆卸地吸附于所述光阑底座；

具有光阑孔的钽片光阑，其固定连接于所述光阑顶座；以及

用于调节所述钽片光阑姿态以使所述光阑孔供一聚焦X光束通过的运动控制机构，其连接在所述组合支架上方；

其中，所述光阑底座和光阑顶座分别开设有与所述光阑孔位置对齐的通光孔。

在上述的遮挡杂散X光的装置中，所述光阑孔的横切面为楔形，且该光阑孔的孔径沿所述聚焦X光束的入射方向由小到大。

在上述的遮挡杂散X光的装置中，所述钽片光阑通过一中空的光阑支架连接于所述光阑顶座。

在上述的遮挡杂散X光的装置中，所述光阑支架的一端与所述钽片光阑粘结，另一端外缘具有带胶层的螺纹；所述光阑顶座的通光孔的孔壁设有用于与所述光阑支架连接的螺纹。

在上述的遮挡杂散X光的装置中，所述光阑底座的面向所述光阑顶座的一侧表面上嵌有底座磁铁，所述光阑顶座的面向所述光阑底座的一侧表面上嵌有与所述底座磁铁位置对应且极性相反的顶座磁铁。

在上述的遮挡杂散X光的装置中，所述装置还包括用于使所述光阑底座与所述光阑顶座配合定位的定位机构，其包括：开设在所述光阑底座的面向所述光阑顶座的一侧表面上的定位凹槽；以及镶嵌在所述光阑顶座的面向所述光阑底座的一侧表面上用于嵌入所述定位凹槽的定位钢珠。

在上述的遮挡杂散X光的装置中，所述定位凹槽的数量为三个，且该三个定位凹槽的横切面分别呈圆柱形、楔形和锥形。

在上述的遮挡杂散X光的装置中，所述运动控制机构包括：从上至下依次连接的Y向移动平台、X向移动平台、Z向移动平台、倾角位移台和转动平台；以及五个分别驱动所述Y向移动平台、X向移动平台、Z向移动平台、倾角位移台和转动平台运动的驱动电机，其中，所述转动平台与所述组合支架连接。

在上述的遮挡杂散X光的装置中，所述组合支架为由三根可相对于彼此移动的铝合金条组成的三角形结构。

在上述的遮挡杂散X光的装置中，所述装置还包括一位于所述运动控制机构上方的X向滑轨，所述运动控制机构通过滑轨转接块滑动连接于所述X向滑轨。