[实用新型]曝光机的校验装置

说明书

技术领域

本实用新型提供一种曝光机的校验装置，尤指一种可利用曝光机原始的机构及简易的装置随时调整所有的光源为相同的照射强度或相同的照射能量，以提升曝光机曝光的良率。

背景技术

电路板为现今电子装置中的重要组件，而曝光机为目前制作电路板影像转移制程的主要设备。曝光机主要利用曝光的方式在电路板上制作线路，然而，曝光机的光源经过多次使用后，各个光源常会因自身使用寿命的关系而造成其照射强度或照射能量减弱，使得所有光源的照射强度分布不均或照射能量分布不均，降低了曝光机曝光的良率。在此之后便有检测器利用多个光传感器检测光源，然而，由于该检测器的结构复杂、成本高、分割数被限制，而且该检测器并无法对光源的照射强度分布不均或照射能量分布不均做改善。

因此，如何创作出一种曝光机的校验装置，以使其可利用曝光机原始的机构及简易的装置随时调整所有的光源为相同的照射强度或相同的照射能量，以提升曝光机曝光的良率，将是本实用新型所欲积极揭露之处。

实用新型内容

有鉴于上述现有技术的缺陷，发明人有感其未臻于完善，遂竭其心智悉心研究克服，进而研发出一种曝光机的校验装置，以期达到曝光机可利用原始的机构及简易的装置随时调整所有的光源为相同的照射强度或相同的照射能量，以提升曝光机曝光的良率的目的。

为达上述目的及其他目的，本实用新型提供一种曝光机的校验装置，其包含：上左右向移载机构；上照射部，其设置于该上左右向移载机构，该上照射部具有多个上光源以向下照射；下左右向移载机构；下照射部，其设置于该下左右向移载机构，该下照射部具有多个下光源以向上照射；前后向相对移载机构，该上照射部位于该前后向相对移载机构的后部的上方，该下照射部位于该前后向相对移载机构的后部的下方；上感光基板曝光平台，其设置于该前后向相对移载机构且位于该上照射部的下方，该上感光基板曝光平台的上部后侧设置有一个以上的上光传感器，以感测这些上光源的照射强度或照射能量，该上光传感器位于该上照射部的端缘；下感光基板曝光平台，其设置于该前后向相对移载机构且位于该下照射部的上方以与该上感光基板曝光平台相对移动，该下感光基板曝光平台的下部后侧设置有一个以上的下光传感器，以感测这些下光源的照射强度或照射能量，该下光传感器位于该下照射部的端缘；以及光源调整部，其电连接该上左右向移载机构、这些上光源、该下左右向移载机构、这些下光源、该前后向相对移载机构、该上光传感器及该下光传感器，以控制该上照射部与该上感光基板曝光平台的相对移动及/或该下照射部与该下感光基板曝光平台的相对移动，及调整这些上光源及这些下光源为相同的照射强度或相同的照射能量。

上述的曝光机的校验装置中，这些上光源及这些下光源为紫外光发光二极管，该上光传感器及该下光传感器为紫外光传感器。

上述的曝光机的校验装置中，这些上光源及这些下光源呈矩阵排列。

上述的曝光机的校验装置中，还包含光源拆换警示器，其电连接该光源调整部。

借此，本实用新型的曝光机的校验装置可利用曝光机原始的机构及简易的装置随时调整所有的光源为相同的照射强度或相同的照射能量，以提升曝光机曝光的良率。

附图说明

图1为本实用新型较佳具体实施例曝光机的示意图。

图2为本实用新型较佳具体实施例前后向相对移载机构、上感光基板曝光平台及下感光基板曝光平台的分解示意图。

图3为本实用新型较佳具体实施例前后向相对移载机构、上感光基板曝光平台及下感光基板曝光平台的组合示意图。

图4为本实用新型较佳具体实施例上左右向移载机构、上照射部、下左右向移载机构、下照射部、前后向相对移载机构、上感光基板曝光平台及下感光基板曝光平台的分解示意图。

图5为本实用新型较佳具体实施例上左右向移载机构、上照射部、下左右向移载机构、下照射部、前后向相对移载机构、上感光基板曝光平台及下感光基板曝光平台的组合示意图。

主要部件附图标记：

1   曝光机

11  上左右向移载机构

12  上照射部

121 上光源

13  下左右向移载机构

14  下照射部

141 下光源

15  前后向相对移载机构

16  上感光基板曝光平台

161 上光传感器

17  下感光基板曝光平台

171 下光传感器

18  光源调整部