[实用新型]一种低辐射低噪音计算主机有效

专利信息
申请号: 201520259574.0 申请日: 2015-04-27
公开(公告)号: CN204650392U 公开(公告)日: 2015-09-16
发明(设计)人: 魏萌 申请(专利权)人: 魏萌
主分类号: G06F1/18 分类号: G06F1/18;H05K9/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 湖北省武汉市武*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 辐射 噪音 计算 主机
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及计算机技术领域,具体为一种低辐射低噪音计算主机。

背景技术

计算主机指计算机硬件系统中用于放置主板及其他主要部件的容器(Mainframe)。通常包括CPU、内存、硬盘、光驱、电源、以及其他输入输出控制器和接口,如 USB 控制器、显卡、网卡、声卡等等。位于主机箱内的通常称为内设,通常,主机自身(装上软件后)已经是一台能够独立运行的计算机系统,服务器等有专门用途的计算机通常只有主机,没有其他外设。现有的计算主机采用风冷散热,具有噪音较大的缺点,影响人们的正常生产和生活,且现有的计算主机具有较大的辐射,对于长期处于计算机旁工作的人员,严重损害他们的身体健康,为此,我们提出一种低辐射低噪音计算主机。实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种低辐射低噪音计算主机,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种低辐射低噪音计算主机,包括机箱,所述机箱的外侧壁涂刷有防辐射层,所述机箱的内侧壁表面安装有防辐射金属网,所述机箱的内腔右侧壁中部安装有支架,所述支架的中部安装有电机,所述电机通过轴连接有风扇叶片,所述机箱的内腔右侧壁中部安装有消音装置,且消音装置位于支架的右侧,所述消音装置包括衰减层和消音层,且衰减层位于消音层的左侧壁,所述衰减层的左侧壁表面留有衰减坑,所述消音装置的左右侧壁留有贯穿消音装置的鹅颈方管。

优选的,所述风扇叶片设有多层阶梯状的平台面。

优选的,所述平台面的边缘留有波浪状的凸层。

优选的,所述消音层的右侧壁安装有过滤网。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该计算主机采用防辐射层和防辐射金属网的结构使计算主机具有低辐射的作用,降低对使用人员的身体伤害,采用衰减层的左侧壁表面留有衰减坑和消音装置的左右侧壁留有贯穿消音装置的鹅颈方管的结构降低计算主机的噪音,让使用人员使用环境更加安静,提高使用效率。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图;

图2为本实用新型的A结构放大示意图;

图3为本实用新型的消音层右视图;

图4为本实用新型风扇叶片结构示意图。

图中:1机箱、2防辐射层、3防辐射金属网、4支架、5电机、6风扇叶片、7消音装置、8衰减层、9消音层、10衰减坑、11鹅颈方管、12平台面、13凸层、14过滤网。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4,本实用新型提供一种技术方案:一种低辐射低噪音计算主机,包括机箱1,所述机箱1的外侧壁涂刷有防辐射层2,所述机箱1的内侧壁表面安装有防辐射金属网3,防辐射层2和防辐射金属网3阻止计算主机内的辐射传递到计算主机外,所述机箱1的内腔右侧壁中部安装有支架4,所述支架4的中部安装有电机5,所述电机5通过轴连接有风扇叶片6,所述风扇叶片6设有多层阶梯状的平台面12,所述平台面12的边缘留有波浪状的凸层13,风扇叶片6的阶梯状的平台面12和平台面12边缘波浪形的凸层13结构,有效地降低风扇叶片6出口处的漩涡流损失,提高风扇叶片6的空气动力性能,能使风扇叶片6在相同的转速时具有更低的噪声,更大的流量和更高的静压,所述机箱1的内腔右侧壁中部安装有消音装置7,且消音装置7位于支架5的右侧,所述消音装置7包括衰减层8和消音层9,且衰减层8位于消音层9的左侧壁,所述消音层9的右侧壁安装有过滤网14,过滤空气中的灰尘进入计算主机的内腔中,所述衰减层8的左侧壁表面留有衰减坑10,所述消音装置7的左右侧壁留有贯穿消音装置7的鹅颈方管11,鹅颈管11的结构使冷却风弯曲运行,降低了噪音,同时具有防尘作用。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于魏萌,未经魏萌许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520259574.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top