[实用新型]多通道自反应化学镀膜仪器

权利要求书

1.一种多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，包括：

托架，包括立柱以及设置在所述立柱顶部的横臂；

水槽，位于所述立柱的底部；

杯架，包括纵向螺杆、转盘，所述纵向螺杆安装在所述托架的横臂上，所述转盘连接在所述纵向螺杆的底部，在所述转盘上设置有至少两个上下贯穿的杯座，

至少两个样品杯，各所述样品杯可分别置于各所述杯座上，各所述样品杯包括杯体、覆盖在所述杯体顶部开口的上盖以及密封安装在所述杯体底部开口的密封下盖，

当所述样品杯置于所述杯座上时，所述杯体的下部从所述杯座下伸出且露出在所述转盘的下方，调节所述纵向螺杆可使所述杯体的下部伸入所述水槽内，在所述密封下盖的顶部密封覆盖有一镀膜基片，所述镀膜基片的顶面与装在所述样品杯内的溶液接触，所述镀膜基片紧固在所述密封下盖与所述杯体之间。

2.根据权利要求1所述的多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

所述杯体的顶部开口外周设置有水平向外凸起的凸棱，所述杯体凸棱凸出在所述杯座的顶部将所述杯体悬挂在所述杯座内，所述杯体的下部从所述杯座下伸出且露出在所述转盘的下方。

3.根据权利要求1所述的多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

在所述密封下盖的顶部设置有一向下凹进的凹台，所述镀膜基片限位于所述凹台的顶面，当所述密封下盖密封连接在所述杯体的底部时，所述镀膜基片的底面密封覆盖在所述凹台的顶面，所述镀膜基片紧固在所述密封下盖与所述杯体的底部开口之间，所述镀膜基片的顶面露出在所述样品杯内腔内。

4.根据权利要求3所述的多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

在所述杯体的底部设置有一向所述杯体的内腔凹进的凹位，在所述凹位的中心还设置有与所述杯体的内腔连通的通孔，所述通孔的宽度小于所述凹位的宽度，当所述密封下盖密封连接在所述杯体的底部时，所述镀膜基片的顶部外沿与所述通孔的底部密封连接，所述密封下盖紧固在所述凹位内，所述密封下盖的外壁与所述凹位的内壁密封连接，所述镀膜基片的顶面位于所述通孔的底部。

5.根据权利要求4所述的多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

所述密封下盖的所述凹位的宽度由下往上方向逐渐变宽。

6.根据权利要求5所述的多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

所述密封下盖的所述凹位的内沿呈圆弧状。

7.根据权利要求1至6之任一所述的多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

在各所述样品杯中还分别设置有搅拌部件，所述搅拌部件位于所述密封下盖的上方，可在所述样品杯内运动。

8.根据权利要求7所述的多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

所述搅拌部件为：磁性搅拌部件，

在所述水槽的底部还设置有磁性部件，当所述磁性部件相对于所述磁性搅拌部件运动时，所述磁性搅拌部件在所述样品杯内运动。

9.根据权利要求8所述的多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

所述搅拌部件为：悬挂在所述上盖下方的磁性吊球。

10.根据权利要求9所述的多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

在所述上盖上设置有一通孔，在所述通孔内贯穿有一吊绳，所述磁性吊球连接在所述吊绳的底端，在所述吊绳的顶部固定有一悬挂块，所述悬挂块覆盖在所述通孔的顶部。

11.根据权利要求8所述的多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

所述磁性物质可在所述水槽内运动。

12.根据权利要求11所述的多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

在所述水槽内还设置有第一搅拌机；

所述第一搅拌机上设置有可水平旋转的转臂，所述磁性物质固定在所述转臂上。

13.根据权利要求8所述的多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

所述转盘可沿所述螺杆水平旋转。

14.根据权利要求1至6之任一所述的多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

在所述水槽内还设置有第二搅拌机，所述第二搅拌机用于搅拌所述水槽内的液体。