[实用新型]触控传感器

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种触控传感器，尤其涉及一种光学性质差异小，视觉效果好，局部无黑影的触控传感器。

背景技术

触控传感器是一种透明的绝对定位系统，能够检测外界的触摸动作并定位触摸的位置。以电容式触摸屏（GFF结构）为例，其基本结构为发射层、光学胶（Optically Clear Adhesive，OCA）、接收层和盖板玻璃。

其中发射层和接收层均为图案化的透明导电膜，该图案化的透明导电膜是实现触控功能的关键部分。其制备工艺如下：采用激光、丝网印刷或者黄光等工艺将透明导电膜上图案化区域的导电组分去除掉，从而形成特定的导电图案和导电通路。在导电图案区，导电膜被切割成许多孤立的导电单元，无法形成连续的导电通路；而在导电通路区，导电组分未被刻蚀，能够感应并传输外界触摸引起的电信号。常见的导电图案包括正方形、菱形等，图1为一种常见的正方形导电图案。

在图1所示方案中，导电图案区中黑色线条部分的导电组分被蚀刻掉，而在导电通道区中导电组分完全没有被蚀刻。因此，导电图案区和导电通道区的宏观光学性质有明显的差异，导致组合后的触摸屏传感器蚀刻痕十分明显。一般情况下，如果不对导电膜进行特殊的消影处理，采用这种方法制备的图案化导电膜会有严重的蚀刻痕，从而影响产品的视觉效果及用户体验，无法应用于中高端产品。

有鉴于此，有必要对现有的触摸屏传感器予以改进，以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供光学性质差异小，视觉效果好，局部无黑影的触控传感器。

为实现上述实用新型目的，本实用新型提供了一种触控传感器，包括至少一层透明的导电膜和盖板，靠近所述盖板的导电膜具有导电图案区和导电通道区，所述导电图案区具有第一刻蚀图案，所述导电通道区具有与部分所述第一刻蚀图案相同的第二刻蚀图案。

作为本实用新型的进一步改进，所述触控传感器具有视窗区和围绕所述视窗区的周缘区，位于所述视窗区的所述第一刻蚀图案与第二刻蚀图案相同或部分相同。

作为本实用新型的进一步改进，所述触控传感器具有视窗区和围绕所述视窗区的周缘区，所述触控传感器还包括位于所述周缘区与所述导电膜导通以传输电信号的导电线路；所述第一刻蚀图案与所述导电线路断开，而所述第二刻蚀图案与所述导电线路导通。

作为本实用新型的进一步改进，所述触控传感器具有视窗区和围绕所述视窗区的周缘区，所述触控传感器还包括位于所述周缘区与所述导电膜导通以传输电信号的导电线路；所述第二刻蚀图案的任何导电单元可与所述导电线路导通。

作为本实用新型的进一步改进，所述第一刻蚀图案与第二刻蚀图案呈周期性排列。

作为本实用新型的进一步改进，所述第一刻蚀图案与第二刻蚀图案包括周期性排列的直线、折线、弧线、波浪线、方形、圆形、三角形、菱形中的一种或多种的组合。

作为本实用新型的进一步改进，所述导电图案区具有由第一刻蚀图案分割成的孤立导电单元，所述导电通道区的第二刻蚀图案中的任意两条刻蚀线不相交。

作为本实用新型的进一步改进，所述第一刻蚀图案、第二刻蚀图案的刻蚀线条的宽度介于10μm~300μm之间。

作为本实用新型的进一步改进，所述第一刻蚀图案、第二刻蚀图案的相邻两条刻蚀线条的间距介于50μm~1000μm之间。

作为本实用新型的进一步改进，所述导电膜为ITO导电膜、纳米银导电膜、金属网格导电膜、碳纳米管导电膜、石墨烯导电膜或导电高分子导电膜。

本实用新型的有益效果是：本实用新型的触控传感器，通过所述导电通道区具有与部分所述第一刻蚀图案相同的第二刻蚀图案，从而使得所述导电通道区与导电图案区的刻蚀图案相同或相近，从视觉上消除或降低传统图案所带来的光学性质差异，使人眼无法区分出因刻蚀图案中的刻蚀痕，从而达到消影效果。

附图说明

图1是传统的导电膜的图案示意图。

图2是本实用新型其中一实施例的导电膜的图案示意图。

图3是本实用新型另一实施例中导电膜的图案示意图。

图5是本实用新型又一实施例中导电膜的图案示意图。

图6是本实用新型又一实施例中导电膜的图案示意图。

图7是本实用新型又一实施例中导电膜的图案示意图。

图8是本实用新型又一实施例中导电膜的图案示意图。

图9是本实用新型又一实施例中导电膜的图案示意图。

图10是本实用新型再一实施例中导电膜的图案示意图。

具体实施方式