[实用新型]自走式擦地装置

权利要求书

1.一种自走式擦地装置，其特征在于，包含有：

一本体，将前进方向定义为前方，该本体的底部设有多个轮体以及一吸尘口，该吸尘口位于该本体的底部前方，且该本体具有一与该吸尘口相通的集尘部；以及

一擦地模块，可拆卸的装设于该本体的底部，并位于该吸尘口后方，该擦地模块具有一水箱、一第一抺布、两个轴杆及一第二抺布；该水箱具有一第一结合区及一第二结合区，该第一结合区位于该第二结合区前方，该第一结合区设置有一渗水部，该渗水部下方形成至少一渗水孔；该第一抺布呈环绕状，且环绕于该两个轴杆，该两个轴杆将该第一抺布的两侧撑开，该两个轴杆相对该本体前进方向而横向枢设于该水箱的第一结合区，而将该第一抺布横向设置于该第一结合区，该第一抺布位于该渗水部的下方；当本体于地面或平面行进时，该第一抺布与地面摩擦接触，而使该第一抺布沿着该两个轴杆绕行运转；该第二抺布结合于该第二结合区；当本体于地或平面行进时，该第二抺布与地面摩擦接触。

2.依据权利要求1所述的自走式擦地装置，其特征在于，该水箱由一上盖及一底盖所组成，该上盖于该第一结合区横向形成有一壳体，该壳体凹入向下延伸形成至少一凸块，该底盖于该第一结合区横向形成有一片体，且该片体位置相对应该壳体，该片体与该壳体结合形成该渗水部，该片体开设有至少一开孔，该至少一凸块数量及位置是一一对应该至少一开孔，该至少一凸块位于该至少一开孔内，该至少一开孔的孔径略大于该至少一凸块外缘，使该至少一开孔与该至少一凸块之间形成一渗水孔。

3.依据权利要求2所述的自走式擦地装置，其特征在于，该底盖于该第一结合区横向凹设有两对第一凹槽，该两个轴杆分别置入该两对第一凹槽，枢设于该底盖。

4.依据权利要求2所述的自走式擦地装置，其特征在于，还包含一滚轮；其中，该底盖于该第二结合区的后方还设有一第二凹槽，该滚轮置入该第二凹槽，与该底盖结合。

5.依据权利要求2所述的自走式擦地装置，其特征在于，还包含一密封盖，其中：该底盖的第二结合区形成有一注水口，该密封盖盖合该注水口。

6.依据权利要求2所述的自走式擦地装置，其特征在于，该底盖于该第二结合区底部设有多个毡黏布，该第二抺布可拆卸地毡黏这些毡黏布。

7.依据权利要求2所述的自走式擦地装置，其特征在于，该上盖的底缘形成凹槽，该底盖的上缘形成凸条，该凸条置入该凹槽内，该上盖与该底盖结合形成防水密合。

8.依据权利要求1所述的自走式擦地装置，其特征在于，该水箱于该第一结合区两侧各设有一开槽，该本体的这些轮体中的两个轮体分别穿过该两个开槽，且露出于该两个开槽。

9.依据权利要求1所述的自走式擦地装置，其特征在于，该至少一渗水孔与该第一抺布相接触。

10.依据权利要求1所述的自走式擦地装置，其特征在于，该本体的底缘形成多个结合凹槽，该擦地模块的上缘形成多个结合块，这些结合块以一一对应方式置入这些结合凹槽内，该本体与该擦地模块结合。