[实用新型]一种多组工作频率金属探测装置有效

专利信息
申请号: 201520216915.6 申请日: 2015-04-13
公开(公告)号: CN204758835U 公开(公告)日: 2015-11-11
发明(设计)人: 曾宇;张文灿;黄海林 申请(专利权)人: 漳州市东方智能仪表有限公司
主分类号: G01V3/10 分类号: G01V3/10
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 363000 福建省漳*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 工作 频率 金属 探测 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及金属探测领域,特别是一种多组工作频率金属探测装置。

背景技术

当在同一工作场所使用2台或2台以上同一型号金属探测器时,各自探测器发射线圈对对方接收线圈将产生电磁耦合,产生的差频、和频信号将严重干扰探测器而使之无法正常工作。如果通过直接改变电路中元器件来改变工作频率,会影响到诸如地平衡、识别等功能的精度或稳定性,同时需要切换多个开关触点,实施有许多困难。因此急需一种金属探测装置能够在不改变器件的情况下就能改变工作频率而消除使用过程中生产的干扰,使得上述问题得到解决。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种多组工作频率金属探测装置

本实用新型的装置采用以下方案实现:一种多组工作频率金属探测装置,包括一CPU模块、一驱动模块、一按键模块、一显示屏模块、一供电模块以及一发射和接收线圈组件模块;所述按键模块与所述CPU模块的输入端相连,用以改变所述CPU模块产生所需的PWM脉冲信号,所述CPU模块的输出端与所述驱动模块的输入端相连,所述驱动模块的输出端与所述发射和接收线圈组件模块中的发射线圈相连,用以驱动所述发射线圈发射所需的工作频率;所述CPU模块还与所述显示屏模块相连,所述显示屏模块用以指示当前状态下的工作频率和所述探测装置的工作状态;所述供电模块与所述按键模块、CPU模块、驱动模块以及显示屏模块相连,用以提供电源。

进一步地,所述的显示屏模块为LCD显示屏。

较佳的,所述的工作频率的实时改变通过按键模块实现,所述CPU模块可在所述按键模块的控制下产生至少两组以上所需工作频率的PWM脉冲信号,所述PWM脉冲信号经所述驱动模块驱动发射线圈工作,在按动所述按键模块后,所述CPU模块即可改变PWM脉冲信号,使金属探测装置在新的工作频率下工作。

本实用新型的优点在于在金属探测装置工作过程中发射线圈的工作频率是可调的,以适应在同一个使用场所使用有多台相同的探测器而产生的电磁相互干扰的情况,相邻2台探测装置在使用不同工作频率后将不会再出现相互间电磁干扰而能够正常工作。由于是通过CPU模块改变其工作频率因此无需打开仪器外壳,无需更换零件,通过仪器面板的按键开关改变激励信号的频率即可随时改变探测器的工作频率,适用于地下金属探测器、手持式金属探测器或其他类似金属探测器。

附图说明

图1为本实用新型的电路示意图。

图2为本实用新型中CPU模块改变PWM脉冲信号时的波形与频率示意图。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型做进一步说明。

如图1所示,本实施例提供本实用新型的装置采用以下方案实现:一种多组工作频率金属探测装置,包括一CPU模块、一驱动模块、一按键模块、一显示屏模块、一供电模块以及一发射和接收线圈组件模块;所述按键模块与所述CPU模块的输入端相连,用以改变所述CPU模块产生所需的PWM脉冲信号,所述CPU模块的输出端与所述驱动模块的输入端相连,所述驱动模块的输出端与所述发射和接收线圈组件模块中的发射线圈相连,用以驱动所述发射线圈发射所需的工作频率;所述CPU模块还与所述显示屏模块相连,所述显示屏模块用以指示当前状态下的工作频率和所述探测装置的工作状态;所述供电模块与所述按键模块、CPU模块、驱动模块以及显示屏模块相连,用以提供电源。

在本实施例中,所述的显示屏模块为LCD显示屏。

在本实施例中,较佳的,所述CPU模块可在所述按键模块的控制下产生至少两组以上所需工作频率的PWM脉冲信号,所述脉冲信号经所述驱动模块驱动发射线圈工作,在按动所述按键模块后,所述CPU模块即可改变PWM脉冲信号的频率,使金属探测装置在新的工作频率下工作。

在本实施例中,特别地,如图2所示,当所述CPU模块产生一PWM脉冲信号A时,此时由A激励信号在发射线圈上实际的波形记为B,所述发射线圈发射的工作频率为f1,;当按动所述按键模块后,可控制所述CPU模块产生另一PWM脉冲信号C,此时PWM脉冲信号的频率升高,由C激励信号在发射线圈上实际的波形记为D,则此时发射线圈发射的工作频率也随之升高,所述工作频率为f2。因此本实施例中可以达到不改变元器件参数而改变工作频率的目的。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,凡依本实用新型申请专利范围所做的均等变化与修饰,皆应属本实用新型的涵盖范围。

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