[实用新型]外延片清洗机

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体外延生长设备领域，具体地说是一种外延片清洗机。

背景技术

外延是半导体工艺当中的一种。硅片最底层是衬底硅(有的加点埋层)，然后在衬底上生长一层单晶硅，这层单晶硅称为外延层，再后来在外延层上注入基区、发射区等等。外延片就是在衬底上做好外延层的硅片。因有些制造商只做外延之后的工艺生产，所以购买做好外延工艺的外延片来接着做后续工艺。

在清洗机清洗外延片的过程中，清洗工艺中其中一步为稀释的氢氟酸清洗外延片的背面，需要有支撑柱将外延片支撑和顶出，期间会造成回溅含有氢氟酸的液体落在支撑柱上。由于支撑柱表面液体无法及时流走，且在清洗结束后会直接跟外延片背面接触，支撑柱上残留的积液会腐蚀外延片背面的二氧化硅，导致外延片报废。

实用新型内容

本实用新型的目的之一是为了克服现有技术的不足，提供一种清洗效果更好的外延片清洗机。

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案实现：

外延片清洗机，包括驱动装置和清洗盒，所述的清洗盒内设有支撑架，所述的支撑架能够在清洗盒内上升和下降，所述的驱动装置驱动支撑架上升和下降，所述的支撑架上端设有若干支撑柱，所述的支撑柱上端面用于支撑外延片，所述的支撑柱上端面为圆弧面，使液体无法停留在支撑柱上端面。

在上述的外延片清洗机中，所述的支撑柱上端面设有销子，所述的销子与外延片下端面接触。

在上述的外延片清洗机中，所述的支撑架还包括连接柱，所述的支撑柱安装在连接柱上 端，所述的连接柱下端安装在清洗盒内，所述的驱动装置驱动连接柱上升和下降。

在上述的外延片清洗机中，所述的连接柱包括可拆卸连接的连接部和安装部，所述的连接部与支撑柱连接，所述的安装部与清洗盒连接。

在上述的外延片清洗机中，所述的支撑柱至少有三根，所述的支撑柱一端与支撑架连接且呈放射状。

在上述的外延片清洗机中，所述的支撑柱上端面设有销子，所述的销子和外延片下端面接触，所述的销子位于支撑柱远离支撑架端。

在上述的外延片清洗机中，所述的支撑柱呈圆柱状。

本实用新型支撑架在清洗盒内上升和下降，支撑硅片在清洗盒内清洗；支撑柱端面为圆弧面，清洗结束后清洗液无法停留在支撑柱上端面，不会使硅片发生腐蚀。

本实用新型的支撑柱上端的销子支撑硅片，使硅片不易滑动。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型支撑架结构示意图。

图中标号说明：

1、清洗盒；2、支撑架；3、支撑柱；4、连接柱；5、连接部；6、安装部；7、销子。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型进行详细的描述。

如图1-2所示，一种外延片清洗机，包括驱动装置(图中未标出)和清洗盒1，所述的清洗盒1内设有支撑架2，所述的支撑架2能够在清洗盒1内上升和下降，所述的驱动装置驱动支撑架2上升和下降，所述的支撑架2上端设有若干支撑柱3，所述的支撑柱3上端面用于支撑外延片，支撑柱3呈圆柱状，支撑柱3上端面为圆弧面，使液体无法停留在支撑柱3上端面。

本实用新型支撑架2在清洗盒1内上升和下降，支撑硅片在清洗盒1内清洗；支撑柱3上端面为圆弧面，当清洗液留在支撑柱3上端面时，由于上端面为圆弧面，因此清洗液张力容易被破坏，从而使清洗液不容易聚集在支撑柱3上端面上，而清洗结束后清洗液无法停留 在支撑柱3上端面，就不会使硅片发生腐蚀。

支撑架2还包括连接柱4，连接柱4包括可拆卸连接的连接部5和安装部6，连接部5和安装部6采用螺纹连接，便于拆卸，连接柱4上端为连接部5，下端为安装部6，所述的连接部5与支撑柱3连接，所述的安装部6与清洗盒1连接，所述的驱动装置驱动连接柱4上升和下降，本实施例中，驱动装置是电机。

支撑柱3至少有三根，所述的支撑柱3一端与支撑架2连接且呈放射状，支撑柱3长短大小相同，支撑柱3上端面设有销子7，销子7位于支撑柱3放射状的靠近最外端的位置，所述的销子7和外延片下端面接触，销子7支撑硅片，对硅片起支撑和定位作用，使硅片不易滑动，同时销子7上端面采用圆弧面且面积很小，清洗液无法停留在销子7上端面，也不会导致硅片腐蚀。

本实用新型中的实施例仅用于对本实用新型进行说明，并不构成对权利要求范围的限制，本领域内技术人员可以想到的其他实质上等同的替代，均在本实用新型保护范围内。