[实用新型]光源装置

说明书

技术领域

本实用新型的实施方式涉及一种包括发光元件的光源装置，尤其涉及一种用于液晶的硬化等且包括多个发光元件的光源装置。

背景技术

现在，在液晶面板的硬化或重合、贴合中使用的光源装置中，使用通过激发封入到管内的金属而射出光的放电灯(例如低压荧光灯、高压水银灯、金属卤化物灯)。进而在液晶面板的硬化或重合、贴合等光反应工序中，使用具有射出紫外线的发光元件的光源装置。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2010-197540号公报

[专利文献2]国际公开第2010/197540号

[专利文献3]日本专利特开2007-305703号公报

[专利文献4]日本专利特开2010-93094号公报

[专利文献5]日本专利特开昭59-43320号公报

[专利文献6]日本专利特开昭60-59733号公报

且说，现有技术中，例如在照射光而使被照射物的光硬化型树脂硬化时，要求抑制不充分的硬化。而且，光源装置中，要求抑制照射紫外线的被照射物的不均匀的反应，即，紫外线对被照射物的不均匀的照射。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供抑制被照射物的光化学反应的不均匀的光源装置。而且，本实用新型的目的在于提供抑制紫外线对被照射物的不均匀的照射的光源装置。

[解决问题的技术手段]

实施方式的光源装置包括发光部、调整单元及光学零件。发光部包括多个第一发光元件以及多个第二发光元件。第一发光元件射出第一峰值波长的紫外线。第二发光元件射出与第一峰值波长不同的第二峰值波长的紫外线，且配置于第一发光元件的周围。以第二发光元件中的至少一个位于第一发光元件的周围的方式，将多个第一发光元件及多个第二发光元件配置成面状或直线状。调整单元使发光部中的位于外缘的发光部的相对照度比位于中央的发光部的相对照度大。光学零件使第一发光元件与第二发光元件射出的紫外线扩散并照射到被照射物。

在本实用新型的一实施例中，所述第一发光元件及所述第二发光元件射出峰值波长为240nm以上且405nm以下的紫外线。

在本实用新型的一实施例中，所述光学零件由玻璃构成。

在本实用新型的一实施例中，所述光源装置，还包括控制单元，所述控制单元使紫外线从所述发光部依次照射到多个被照射物。所述控制单元针对各被照射物重复进行：使规定时间内的所述第一发光元件及所述第二发光元件射出的紫外线相对于各被照射物的相对照度随时间的经过而减弱。

在本实用新型的一实施例中，所述发光元件射出峰值波长为240nm～450nm的紫外线。

在本实用新型的一实施例中，所述控制单元使所述规定时间内的所述发光元件射出的紫外线的相对照度在刚射出后为最强，并随时间的经过而减弱。

在本实用新型的一实施例中，所述被照射物包含树脂。

在本实用新型的一实施例中，在所述发光部与所述被照射物之间，具有提取从所述发光部射出的紫外线的偏光成分的偏光元件。

[实用新型的效果]

根据本实用新型，可提供抑制紫外线对被照射物的不均匀的照射的光源装置。而且，可提供抑制被照射物的光化学反应的不均匀的光源装置。

附图说明

图1是表示包括实施方式1的光源装置的紫外线照射装置的概略构成的图。

图2是从下方表示实施方式1的光源装置的概略构成的俯视图。

图3是表示相对于实施方式1的光源装置的各发光元件射出的紫外线的波长的相对放射强度的图。

图4是表示相对于实施方式1的光源装置射出的紫外线的波长的相对放射强度的一例的图。

图5是表示图1所示的紫外线照射装置的平台上的相对照度与光源装置射出的紫外线的相对照度的图。

图6是从下方表示实施方式1的变形例1的光源装置的概略构成的俯视图。

图7是从下方表示实施方式1的变形例2的光源装置的概略构成的要部的俯视图。

图8是表示实施方式2的光源装置的概略构成的立体图。

图9是图8所示的光源装置的X轴方向观察的剖面图。

图10是图8所示的光源装置的光射出部的俯视图。

图11是图10所示的光射出部的X轴方向观察的剖面图。

图12是表示图8所示的光源装置的光射出部的相对照度的变化的图。

图13是图8所示的光源装置的控制单元的流程图的一例。