[实用新型]光学元件有效
申请号: | 201520157237.0 | 申请日: | 2015-03-19 |
公开(公告)号: | CN204666855U | 公开(公告)日: | 2015-09-23 |
发明(设计)人: | 藤井达也;细田启次 | 申请(专利权)人: | 豪雅冠得股份有限公司;青岛豪雅光电子有限公司 |
主分类号: | G02B5/22 | 分类号: | G02B5/22;G02B5/00;G02B1/115 |
代理公司: | 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 | 代理人: | 巩同海 |
地址: | 日本埼玉县*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 元件 | ||
1.一种光学元件,为内装有固体摄像元件的摄像装置中使用的光学元件,其特征在于,所述光学元件包括:
玻璃基材,具备光入射的入射面和入射到该入射面的光透过的出射面,所述光透过出射面后入射到固体摄像元件上,
在所述入射面及所述出射面中的至少一面上形成为框状、并且将所述光的一部分遮住的遮光膜,
以覆盖所述遮光膜和所述遮光膜的开口部的方式形成的防反射膜;形成有:边抑制入射到所述遮光膜的开口部的区域的光反射边使入射到所述遮光膜的开口部的区域的光透过的透光部,边抑制入射到所述遮光膜的区域的光反射边将入射到所述遮光膜的区域的光遮住的遮光部。
2.根据权利要求1所述的光学元件,其特征在于,所述遮光膜由至少包含Cr的薄膜形成。
3.根据权利要求2所述的光学元件,其特征在于,所述遮光膜包括:由Cr形成的第一薄膜,由Cr2O3形成的、形成在所述第一薄膜和所述玻璃基材间的第二薄膜,由Cr2O3形成的、形成在所述第一薄膜和所述防反射膜之间的第三薄膜。
4.根据权利要求3所述的光学元件,其特征在于,所述第三薄膜与所述防反射膜连接,第三薄膜膜厚为55~63nm。
5.根据权利要求1~4中的任一项所述的光学元件,其特征在于,所述防反射膜是Al2O3、ZrO2、MgF2顺次层叠而形成的。
6.根据权利要求1~4中的任一项所述的光学元件,其特征在于,所述透光部的面积比所述固体摄像元件的受光面的面积大。
7.根据权利要求1~4中的任一项所述的光学元件,其特征在于,所述光学元件安装在收纳所述固体摄像元件的包装的前面,用作防护玻璃。
8.根据权利要求1~4中的任一项所述的光学元件,其特征在于,所述玻璃基材为吸收近红外线区域的波长的光的近红外线吸收玻璃。
9.根据权利要求8所述的光学元件,其特征在于,所述近红外线吸收玻璃是由含有Cu2+的氟磷酸盐系玻璃或含有Cu2+的磷酸盐系玻璃构成的。
10.根据权利要求1所述的光学元件,其特征在于,所述遮光膜通过蚀刻而形成。
11.根据权利要求10所述的光学元件,其特征在于,在所述遮光膜和所述玻璃基材之间设有蚀刻阻挡层,所述蚀刻阻挡层蚀刻中用于保护玻璃基材。
12.根据权利要求11所述光学元件,其特征在于,所述蚀刻阻挡层由SiO2、Al2O3或ZrO2 的薄膜形成。
13.根据权利要求11或12所述的光学元件,其特征在于,在以所述光的参照波长为λ时,所述蚀刻阻挡层的光学膜厚为λ/2。
14.根据权利要求11或12所述的光学元件,其特征在于,所述蚀刻阻挡层的物理膜厚相对于所述玻璃基材的板厚为0.3~200.0ppm。
15.根据权利要求11或12所述的光学元件,其特征在于,所述玻璃基材的板厚为0.1~1.0mm,所述蚀刻阻挡层的物理膜厚为0.3~20.0nm。
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