[实用新型]温度场可控的氮化铝晶体生长装置及工艺有效

专利信息
申请号: 201520150153.4 申请日: 2015-03-10
公开(公告)号: CN204714946U 公开(公告)日: 2015-10-21
发明(设计)人: 武红磊;郑瑞生;徐百胜;梁逸;贺姝慜 申请(专利权)人: 深圳大学
主分类号: C30B29/38 分类号: C30B29/38;C30B23/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518060 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 温度场 可控 氮化 晶体生长 装置 工艺
【权利要求书】:

1.温度场可控的氮化铝晶体生长装置,由加热器、保温层、红外测温仪(5)、坩埚(6)和坩埚支架(7)组成,其中,坩埚(6)位于生长装置的中间,由下方的坩埚支架(7)支撑,加热器包括顶加热器(3)、中加热器(4)和底加热器(8),分别位于坩埚(6)的上方、周围及下方,保温层包括顶保温层(1)、侧保温层(2)和底保温层(9),位于加热器的外围,且与保温层之间均相互独立,坩埚支架(7)固定于底保温层(9)上方。

2.根据权利要求1所述的生长装置,其特征在于,顶加热器(3)、底加热器(8)与中加热器(4)同轴,且前两者在竖直方向的位置可伸入中加热器(4)内,也可在其外。

3.根据权利要求1所述的生长装置,其特征在于,中加热器(4)为金属材料钨,采用网状或瓦状的圆筒形结构。

4.根据权利要求1所述的生长装置,其特征在于,顶加热器(3)和底加热器(8)为金属材料钨,采用棒状或蚊香盘状的圆盘结构。

5.根据权利要求1所述的生长装置,其特征在于,顶保温层(1)、侧保温层(2)和底保温层(9)均采用金属全反射热屏蔽的方式,其中,靠近坩埚的里面几层均采用金属材料钨,外层可采用金属材料钼或钽。

6.根据权利要求1所述的生长装置,其特征在于,坩埚支架(7)由下部的钨杆和顶端的钨盘组成,其中,钨杆贯穿通过底加热器(8),钨盘为实心或中央有镂空图案的圆板。

7.根据权利要求1所述的生长装置,其特征在于,红外测温仪(5)的测温位置分别对应于坩埚(6)的外径顶部、中部、底部,同时,并与加热器的功率控制装置相连。

8.根据权利要求1所述的生长装置,其特征在于,可采用上或下出料方式,其中,上出料时,生长装置的顶部电极与外电源采用软线缆相连,且顶保温层(1)随升降系统一起提升出料,下出料时,生长装置的底部电极与外电源采用软线缆相连,且底保温层(9)、坩埚支架(7)和坩埚(6)随升降系统一起下降出料。

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