[实用新型]一种近距离可调化合物蒸发镀膜红外真空装置

权利要求书

1.一种近距离可调化合物蒸发镀膜红外真空装置，其特征在于：包括有箱体，所述的箱体内包括有试样反应区、真空腔体、加热区，试样反应区、真空腔体、加热区通过插板隔断，所述的试样反应区内设有反应炉，所述的真空腔体内设有真空机组及控制装置，所述的加热区内设有加热蒸发机构，箱体的加热区的两侧面板开设有散热槽孔，所述的加热区顶部活动连接有散热窗口，散热窗口位于加热蒸发机构的上方，所述的加热区的一侧面上设有显示装置，显示装置的一侧开设有凹槽，所述的箱体的试样反应区的两侧面板开设有散热槽孔，箱体的底部设有万向转轮。

2.根据权利要求1所述的一种近距离可调化合物蒸发镀膜红外真空装置，其特征在于：所述的箱体内设置插板，所述的箱体的上部主视边为倒角结构，所述的散热窗口活动连接在箱体的上端面，所述的散热窗口开为V型结构，所述的散热窗口的一边上端面开设有散热槽孔，所述的散热窗口的另一边上设有把手。

3.根据权利要求1所述的一种近距离可调化合物蒸发镀膜红外真空装置，其特征在于：所述的试样反应区的底部设有反应炉，所述的反应炉的底部通过连接杆架固定在试样反应区的底部，所述的反应炉的顶部的排气阀穿过试样反应区与真空腔体之间的插板并伸入到真空腔体内。

4.根据权利要求1所述的一种近距离可调化合物蒸发镀膜红外真空装置，其特征在于：所述的真空腔体内设有真空机组，真空机组通过支撑架固定在真空腔体内，所述的支撑架下方设有排气阀，所述的真空机组上方设有控制装置，所述的真空腔体的一外侧面设有控制组件。

5.根据权利要求1所述的一种近距离可调化合物蒸发镀膜红外真空装置，其特征在于：所述的加热区内设有加热蒸发机构，所述的加热蒸发机构通过螺栓固定在加热区底部的支撑板上，所述的加热蒸发机构包括有腔体，所述的腔体的上端、下端分别连接有上盖法兰、底座法兰，所述的上盖法兰、底座法兰的圆周内侧开设有多个相邻两两相互等距的圆孔，底座法兰的上端面固定有下加热区机构，底座法兰上开设有多个连接圆孔，连接圆孔上连接着真空电极组件，上盖法兰的上端面中部设有承接件，所述的承接件的一侧设有排气阀，所述的承接件通过升降调节旋钮与上加热区机构的光轴连接，上加热区机构固定在上盖法兰的下端面，所述的腔体的侧面上开设有槽孔，槽孔上固定有透视组件，所述的透视组件上设有透明玻璃，所述的透视组件与透明玻璃之间固定连接有O型圈。