[实用新型]一种晶片研磨抛光机下工作盘清理装置有效

专利信息
申请号: 201520101406.9 申请日: 2015-02-12
公开(公告)号: CN204725303U 公开(公告)日: 2015-10-28
发明(设计)人: 章仁上 申请(专利权)人: 德清晶生光电科技有限公司
主分类号: B24B37/34 分类号: B24B37/34
代理公司: 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 代理人: 董芙蓉
地址: 313000 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 晶片 研磨 抛光机 工作 清理 装置
【权利要求书】:

1.一种晶片研磨抛光机下工作盘清理装置,包括研磨机研磨面板的内齿圈和外齿圈,其特征在于:所述内齿圈和外齿圈之间有游心轮,所述游心轮与内齿圈以及外齿圈相齿合;所述游心轮上均匀排布有毛刷。

2.根据权利要求1所述的一种晶片研磨抛光机下工作盘清理装置,其特征在于:所述毛刷插套在游心轮上,所述游心轮上均匀排布有套孔,所述毛刷上有固定环,所述毛刷通过固定环插套在套孔中。

3.根据权利要求1所述的一种晶片研磨抛光机下工作盘清理装置,其特征在于:所述毛刷与游心轮之间通过绳子固定,所述游心轮上有均匀排列有大小不同的两种孔,所述绳子穿过小孔将毛刷固定在大孔内。

4.根据权利要求1所述的一种晶片研磨抛光机下工作盘清理装置,其特征在于:所述游心轮的数量为3-5个。

5.根据权利要求1所述的一种晶片研磨抛光机下工作盘清理装置,其特征在于:所述毛刷采用猪鬃制成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德清晶生光电科技有限公司,未经德清晶生光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520101406.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top