[实用新型]一种光刻机的接近式间隙曝光工件台

权利要求书

1.一种光刻机的接近式间隙曝光工件台，其特征在于：包括掩模板(1)、掩模架(2)、滑块(3)、旋转铜圈(4)、钢球(5)、样片(6)、承片台(7)、三点弹性支撑机构(8)、锁紧气缸(9)、升降驱动机构(10)、主控制器(11)、控制电路板(12)、正压输入端(13)、负压输入端(14)、电控阀门(15)、限位机构(16)和驱动气缸(17)；

所述掩模板(1)位于掩模架(2)上方并固接；所述掩模架(2)上表面有真空槽，用于吸紧掩模板(1)，内腔设置有滑块(3)的径向导向槽，用于滑块(3)导向；所述滑块(3)、钢球(5)以及旋转铜圈(4)嵌入在掩模架(2)内腔中，钢球(5)镶嵌在滑块(3)端部，旋转铜圈(4)上设置有3处滑槽，旋转铜圈(4)旋转运动带动滑块(3)径向伸缩运动；所述承片台(7)设置有真空槽，用于吸附固定样片(6)；所述三点弹性支撑结构(8)与承片台(7)通过柔性铰链连接，用于样片(6)调平；所述气缸包括驱动气缸(17)和锁紧气缸(9)，用于驱动铜圈(4)旋转和锁紧三点弹性支撑结构(8)；所述升降驱动机构(10)设置有限位机构(16)，用于停止升降驱动机构(10)运动；所述正压输入端(13)通过电控阀门(15)分别与锁紧气缸(9)和驱动气缸(17)连接；所述负压输入端(14)通过电控阀门(15)分别于掩模架(2)和承片台(7)连接；所述驱动控制板(12)分别与电控阀门(15)和主控制器(11)连接。

2.根据权利要求1所述一种光刻机的接近式间隙曝光工件台，其特征在于：所述掩模架(2)为水平基准面，上表面有真空槽，通过负压将掩模板(1)固定于掩模架(2)上方。

3.根据权利要求1或2所述一种光刻机的接近式间隙曝光工件台，其特征在于：所述掩模架(2)内腔中三处滑块导向槽之间沿径向以120°夹角均匀分布。

4.根据权利要求1所述一种光刻机的接近式间隙曝光工件台，其特征在于：所述旋转铜圈(4)选用材料铜或者其他耐磨性材料，3处滑槽之间以120°夹角均匀分布。

5.根据权利要求1所述一种光刻机的接近式间隙曝光工件台，其特征在于：所述滑块(3)端部镶有钢球的一端具有一定的恢复弹性变形的能力，可以采用铍青铜或者其他具有一定弹性和耐磨的材料代替，三个钢球(5)等直径，钢球(5)最上端与掩模面的距离为0.5mm或者在弹性变形范围内的其他值。

6.根据权利要求1所述一种光刻机的接近式间隙曝光工件台，其特征在于：所述承片台(7)上表面设有真空槽，与负压输入端(14)相连，通过负压将样片(6)固定于承片台(7)上方。

7.根据权利要求1所述一种光刻机的接近式间隙曝光工件台，其特征在于：所述升降驱动机构(10)可选用电机、气缸或其他具有相似功能的驱动机构；所述电控阀门(15)、驱动气缸(17)、锁紧气缸(9)、升降驱动机构(10)的动作都由主控制器(11)驱动控制。

8.根据权利要求1所述一种光刻机的接近式间隙曝光工件台，其特征在于：所述主控制器(11)可选用微控制器、单片机或其他具有相似功能的控制模块。