[实用新型]带电缸的抛光研磨机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种抛光研磨机，具体涉及一种带电缸的抛光研磨机。

背景技术

之前的抛光研磨机用的是2个气缸，一个普通气缸1，控制大行程的走向，一个是低摩擦缸2，可在较小的行程范围内保持平稳。当上盘悬吊至一定高度后需下降开始工作时，首先是上面的气缸1工作，下降至离工作面只剩5-8公分时，由下面的低摩擦缸2进行工作，平缓的下降至压力传感器达到的设定值位置（如图1所示）。此方法需分两段行程，结构复杂，同时由于是气缸控制，还需要压缩空气，对于一些不需压缩空气的工厂来说，是一个大负担（需要有空压机、储气罐、干燥机等一些列配套设备），成本昂贵。

同时，气缸由于是气控制，在气的供给和抽离过程中，存在缓冲，定位较难控制，研磨机本身就是精度较高的设备，这样会影响产品质量。

实用新型内容

为了克服以上的技术不足，本实用新型提供一种带电缸的抛光研磨机。

本实用新型提供一种带电缸的抛光研磨机，其包括底座，所述底座上设置下定盘，所述底座两侧设置支架，所述支架上设置驱动装置，所述驱动装置下方连接上定盘升降装置，所述上定盘升降装置固定连接上定盘模组，所述上定盘模组待机状态远离下定盘或位于贴合位置与下定盘贴合，所述驱动装置包括电缸、伺服马达以及传动轴，所述电缸通过传动轴与上定盘升降装置连接，所述支架一侧设有用于控制伺服马达的PLC控制机构。

所述上定盘模组上设有压力传感器。

所述支架上端设有挂钩。

所述上定盘模组包括上定盘以及上定盘压板，所述上定盘压板与上定盘升降装置联动配合。

所述底座底部设有支撑脚。

实用新型的有益效果是：改成电缸控制，电缸是伺服马达通过PLC对其控制的，定位精确，不存在缓冲的现象。同时，由于是电动控制，较容易满足，使研磨抛光机的适用范围更为广泛了。

附图说明

图1是现有技术的结构示意图。

图2是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型实施例作进一步说明：

如图1所示，现有的抛光研磨机采用两个气缸，一个普通气缸1，控制大行程的走向，一个是低摩擦缸2，可在较小的行程范围内保持平稳。当上盘悬吊至一定高度后需下降开始工作时，首先是上面的气缸1工作，下降至离工作面只剩5-8公分时，由下面的低摩擦缸2进行工作，平缓的下降至压力传感器达到的设定值位置，但是分两程行进，且采用气缸需要压缩空气，对于一些不需要压缩空气的工厂来讲，成本太高。同时气缸传动会存在缓冲，定位较难控制，影响研磨精度、

如图2所示，本实用新型提供一种带电缸的抛光研磨机，其包括底座3，所述底座3上设置下定盘12，所述底座3两侧设置支架4，所述支架4上设置驱动装置，所述驱动装置下方连接上定盘升降装置8，所述上定盘升降装置8固定连接上定盘模组，所述上定盘模组待机状态远离下定盘12或位于贴合位置与下定盘12贴合，所述驱动装置包括电缸5、伺服马达以及传动轴13，所述电缸5通过传动轴13与上定盘升降装置8连接，所述支架4一侧设有用于控制伺服马达的PLC控制机构7。

所述上定盘模组上设有压力传感器，并于PLC控制机构7连接，用于反馈上定盘模组的位置，精准的通过PLC控制机构7控制伺服电机进行研磨工作。

所述支架4上端设有挂钩6，当处于待机状态时，可以通过挂钩6挂住上定盘模组，防止其在待机状态下对电缸5的重力影响，影响电缸5正常工作。

所述上定盘模组包括上定盘10以及上定盘压板11，所述上定盘压板11与上定盘升降装置8联动配合，采用上定盘10与上定盘压板11固定的方式，可以对上定盘10进行更换，避免时间过久对上定盘10的磨损，影响其使用。

所述底座3底部设有支撑脚9，用于支撑整个研磨抛光机，防止其移位。

实施例不应视为对本实用新型的限制，但任何基于本实用新型的精神所作的改进，都应在本实用新型的保护范围之内。