[实用新型]一种喷砂房用磨料分选和自动供砂设备有效

专利信息
申请号: 201520076866.0 申请日: 2015-02-04
公开(公告)号: CN204546308U 公开(公告)日: 2015-08-12
发明(设计)人: 付显章 申请(专利权)人: 太仓联洲机械设备有限公司
主分类号: B24C7/00 分类号: B24C7/00;B24C9/00
代理公司: 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 代理人: 徐萍
地址: 215400 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 喷砂 磨料 分选 自动 设备
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及金属表面处理领域的金属表面除锈或抛光等领域,尤其涉及一种喷砂房用磨料分选和自动供砂设备。

背景技术

目前市场上的喷砂房的磨料到达室外的尘丸分离和自动送料主要由二种型式:

1)采用气力提升和集中供砂压力罐:由室外的高压风机的负压透过多路风管将喷出得磨料吸回到储丸箱内,再到达集中式压力罐,位于压力罐底部的出砂口按照要求设置一个或多个出口来提供个1支或多支喷砂枪;

2)采用斗提机提升和集中供砂压力罐:在室体底部的纵向设置多条输送带,将磨料送到横向输送皮带上,再由横向皮带线将磨料送到室外的斗提机入口处,经斗提机提升道最高位,将磨料倒入尘丸分离器,经分选后的磨料落入储丸箱,再到达集中式压力罐,位于压力罐底部的出砂口按照要求设置一个或多个出口来提供个2支或多支喷砂枪。

上述二种方式的问题:

1.采用气力提升和集中供砂压力罐的问题:

1.1)磨料无法在进入储丸箱前进行磨料的尘丸分离,以保证磨料中的杂质分离,确保喷砂时的效率和质量;

1.2)因为2个或更多个出砂喷口需要在底部出口出砂,使得压力罐的体积需要满足2个或更多个出砂喷口。如果其中一个喷砂出口堵塞就要讲整台设备停机检修;

1.3)设备整体高度很高。设备占地面积大。

2.采用斗提机提升和集中供砂压力罐的问题:

2.1)因为2个或更多个出砂喷口需要在底部出口出砂,使得压力罐的体积需要满足2个或更多个出砂喷口。如果其中一个喷砂出口堵塞就要讲整台设备停机检修;

2.2)设备整体高度很高,设备占地面积大。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种喷砂房用磨料分选和自动供砂设备,采用多个独立的压力罐给每一个喷砂枪供磨料,如果任意一个压力罐底部的出砂口因为掉入的杂质堵住而无法工作时只需要停掉这个有故障的压力罐就可以检修,而不必要因为只有一个集中式压力罐供砂而必须整机停机来处理故障,大幅提升工作效率,同时采用组合式装配结构,具有结构紧凑精巧,尘丸分离精度高,占地面积只有其他二种的一半场地或更少,节约场地,降低投资成本等优点。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供了一种喷砂房用磨料分选和自动供砂设备,包括斗提机、尘丸分离器、储丸箱、压力罐、砂料分离管、杂物分离管以及灰尘抽离管,所述的尘丸分离器安装在斗提机的上部,所述的砂料分离管和杂物分离管分别安装在尘丸分离器底部的左右两侧,所述的灰尘抽离管安装在尘丸分离器的一侧边, 所述的储丸箱安装在尘丸分离器底部并位于砂料分离管和杂物分离管之间,所述的储丸箱的底部设置有多个放砂阀,所述的压力罐分别通过放砂阀安装在储丸箱的底部。

在本实用新型一个较佳实施例中,所述的斗提机安装在喷砂房内磨料入口的上方。

在本实用新型一个较佳实施例中,所述的尘丸分离器采用震动式尘丸分离器。

在本实用新型一个较佳实施例中,所述的磨料分选和自动供砂设备还包括风选器,所述的风选器分别连接在砂料分离管和杂物分离管与尘丸分离器之间。

在本实用新型一个较佳实施例中,所述的磨料分选和自动供砂设备还包括磨料阀,所述的磨料阀分别安装在压力罐的底部。

在本实用新型一个较佳实施例中,所述的磨料分选和自动供砂设备还包括喷砂管和喷砂枪,所述的喷砂管分别与磨料阀相连接,所述的喷砂枪分别安装在喷砂管的自由端。

本实用新型的有益效果是:本实用新型的喷砂房用磨料分选和自动供砂设备,采用多个独立的压力罐给每一个喷砂枪供磨料,如果任意一个压力罐底部的出砂口因为掉入的杂质堵住而无法工作时只需要停掉这个有故障的压力罐就可以检修,而不必要因为只有一个集中式压力罐供砂而必须整机停机来处理故障,大幅提升工作效率,同时采用组合式装配结构,具有结构紧凑精巧,尘丸分离精度高,占地面积只有其他二种的一半场地或更少,节约场地,降低投资成本等优点。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:

图1 是本实用新型喷砂房用磨料分选和自动供砂设备的一较佳实施例的一侧结构示意图;

图2是图1中另一侧的结构示意图;

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