[实用新型]一种自带漏粉槽的组合模具结构有效
申请号: | 201520065706.6 | 申请日: | 2015-01-30 |
公开(公告)号: | CN204470598U | 公开(公告)日: | 2015-07-15 |
发明(设计)人: | 黄展 | 申请(专利权)人: | 苏州莱特复合材料有限公司 |
主分类号: | B22F3/03 | 分类号: | B22F3/03 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 曹毅 |
地址: | 215000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 带漏粉槽 组合 模具 结构 | ||
技术领域
本实用新型属于粉末冶金领域,具体涉及一种自带漏粉槽的组合模具结构,用于压制带有花键和深槽的复杂的粉末冶金产品。
背景技术
现有粉末冶金冲头有效段一般为连续等距直段,即完全平行于压制方向,在充填过程中,铁粉由于重力作用,不仅存在于模腔中,也存在于冲头和阴模的间隙中;在压制过程中,由于密度要求较高,冲头受压变形胀大;在脱模过程中,容易出现卡模,从而造成生产过程中大量维修报废。
由于在脱模过程中摩擦力大,会加快对冲头的磨损,降低冲头的使用寿命。
实用新型内容
实用新型所要解决的问题就是在复杂的组合模具中,在既不减小有效段的情况下,又能减少粉末冶金产品在成形脱模过程中,堆积在下冲和阴模的间隙中的铁粉,避免卡模。并且通过优化设计延长模具的使用寿命,降低生产成本,解决生产中的不稳定因素。
为实现上述技术目的,达到上述技术效果,本实用新型通过以下技术方案实现:
一种自带漏粉槽的组合模具结构,包括主要由两个上冲和两个下冲构成上二下二结构,其中,第二上冲设置在第一上冲内并形成相互配合,第二下冲卡接在第一下冲内并形成相互配合,第二上冲和第二下冲的工作面之间形成产品腔,在第一下冲的外表面上配合安装有阴模,所述阴模肩面外缘卡接有相固定的阴模压盖和阴模压垫,所述第一下冲外表面与阴模配合的有效段上沿径向设有凹槽。
进一步的,所述第一下冲外表面上的凹槽连通消气面。
进一步的,所述第一下冲外表面与内表面的光洁度在Ra0.04以内。
进一步的,所述第一上冲的轴肩处卡接有第一上冲压盖,第二上冲的外缘设有多个第一上冲压垫,第一上冲压垫与第一上冲压盖靠接,第二上冲的轴肩处和后端面处分别设置有第二上冲压盖和第二上冲压垫。
进一步的,所述第一下冲的轴肩处卡接有第一下冲压盖,在第二下冲延伸出第一下冲段上配合安装有第一下冲压垫,第一下冲压垫与第一下冲压盖靠接,所述第二下冲的轴肩及相应端面处分别设置有第二下冲压盖和第二下冲压垫。
本实用新型的有益效果是:
1、采用本实用新型的第一下冲成形后,可以有效的预防压坯在压制脱模成形产生卡模现象,明显降低压坯在成形过程中的质量风险。
2、通过生产验证,采用该实用新型的第一下冲寿命比之前提高一倍以上。
附图说明
图1为本实用新型的组合模具结构示意图;
图2为本实用新型第一下冲剖视图;
图3为图2中第一下冲C处局部放大图;
图4为本实用新型第一下冲立体结构示意图。
图中标号说明:1、第一上冲,2、第二上冲,3、第一下冲,31、有效段,4、第二下冲,5、产品腔,6、阴模,7、阴模压盖,8、阴模压垫,9、凹槽,10、第一上冲压盖,11、第一上冲压垫,12、第二上冲压盖,13、第二上冲压垫,14、第一下冲压盖,15、第一下冲压垫,16、第二下冲压盖,17、第二下冲压垫。
具体实施方式
下面将参考附图并结合实施例,来详细说明本实用新型。
参照图1所示,一种自带漏粉槽的组合模具结构,包括主要由两个上冲和两个下冲构成上二下二结构,其中,第二上冲2设置在第一上冲1内并形成相互配合,第二下冲4卡接在第一下冲3内并形成相互配合,第二上冲2和第二下冲4的工作面之间形成产品腔5,在第一下冲3的外表面上配合安装有阴模6,所述阴模6肩面外缘卡接有相固定的阴模压盖7和阴模压垫8,所述第一下冲3外表面与阴模6配合的有效段31上沿径向设有凹槽9。
所述第一下冲3外表面上的凹槽9连通消气面。
所述第一下冲3外表面与内表面的光洁度在Ra0.04以内。
所述第一上冲1的轴肩处卡接有第一上冲压盖10,第二上冲2的外缘设有多个第一上冲压垫11,第一上冲压垫11与第一上冲压盖10靠接,第二上冲2的轴肩处和后端面处分别设置有第二上冲压盖12和第二上冲压垫13。
所述第一下冲3的轴肩处卡接有第一下冲压盖14,在第二下冲4延伸出第一下冲3段上配合安装有第一下冲压垫15,第一下冲压垫15与第一下冲压盖14靠接,所述第二下冲4的轴肩及相应端面处分别设置有第二下冲压盖16和第二下冲压垫17。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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