[实用新型]一种用于FA端面研磨的滴液及防护装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及机械加工设备领域，具体为一种用于FA端面研磨的滴液及防护装置。

背景技术

随着科技的高速发展，人们的生活水平大幅度提升，出现了各种各样的通信方式，其中光通信占据着主导地位。

在光通信产品PLC（Planar Lightwave Circuit Splitter，平面光波导分路器）的生产过程中，需要首先制作FA （Fiber Array,光纤阵列），把光纤精密组装定位到一个石英基材上的间距为250um或127um的精密V槽里，上面覆盖上一块石英盖板，最后点入UV胶水并紫外固化。再对FA端面进行研磨抛光。端面质量的好坏直接决定了FA是否好用，PLC光学性能是否合格。

在研磨抛光的过程中，需要定时定量的加研磨液与抛光液。常规的方式采取手动添加。这样就会存在一些问题，研磨液、抛光液沉积，且手动添加存在一定的误差导致研磨后的端面一致性差，研磨质量不稳定；可能忘记添加研磨液导致研磨质量差，进而影响产品的性能。

光纤研磨机是一个偏向盘插入三个轴做偏心运动，研磨盘放在精度较高的底座环上，研磨盘的运行精度就在于底座环，所以保护底座环就是保护研磨机，目前不管四角加压还是中心加压都没有保护措施，研磨时有各种液体流到底座环，腐蚀或磨损底座环，导致机器报废。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种用于FA端面研磨的滴液及防护装置，可以自动的定时定量的对研磨抛光过程添加研磨液与抛光液，同时对研磨液和抛光液搅拌，防止沉积，保证研磨后的端面一致性好，提高研磨质量；还可以保护底座环不被腐蚀和磨损，进而保护加工的精度。

为实现以上目的，本实用新型采用的技术方案是：一种用于FA端面研磨的滴液及防护装置，它包括主体（1）和设置在其上的底座环（13），所述的底座环（13）上设置有与其同轴的研磨盘（14）和防水罩（16），所述的防水罩（16）的上表面设置有固定圈（15）；所述的底座环（13）、防水罩（16）、固定圈（15）通过定位销（17）相固定；所述的研磨盘（14）正上方设置有水管（5）的出液口（502），所述的水管（5）的进液口（501）设置在烧杯（3）中，所述的烧杯（3）底部设置有搅拌子（4），且烧杯（3）设置在磁力搅拌机（2）上，所述的搅拌子（4）和磁力搅拌机（2）通过磁力相配合；所述的水管（5）在进液口（501）和出液口（502）之间还依次连接有泵（6）、控制开关（8）和压力控制阀（9）。

进一步的，所述的防水罩（16）和固定圈（15）均设置在研磨盘（14）外围且相互接触，中间没有间隙。

进一步的，所述的防水罩（16）侧面为锥形，且主体（1）与防水罩（16）底部外侧接触的地方开有水槽（11），所述的水槽（11）与设置在主体（1）侧面的收集盒（12）连通。

进一步的，所述的水槽（11）包括环形水槽（1101）和直型水槽（1102），所述的直型水槽（1102）与收集盒进口（1201）相连。

进一步的，所述的直型水槽（1102）底部为斜面，靠近收集盒（12）的一端深。

进一步的，所述的收集盒进口（1201）为斜面，且其宽度为直型水槽（1102）宽度的2-5倍。

进一步的，所述的磁力搅拌机（2）的侧面设置有转速调节开关（201）和磁力调节开关（202）。

进一步的，所述的泵（6）为蠕动泵，且其还连接有流量调节器（7）。

进一步的，进入到研磨机中的水管（5）、控制开关（8）和压力控制阀（9）均固定在研磨臂（10）上，且出液口（502）为可以任意弯折的柔性管道。

本实用新型的有益效果：1、本实用新型一种用于FA端面研磨的滴液及防护装置，设置了防水罩，可以防止研磨时各种液体流到底座环上，保护底座环不被腐蚀和磨损，进而保护加工的精度。

2、设置了控制开关和压力控制阀，可以自动的定时定量的对研磨抛光过程添加研磨液与抛光液，保证适时适量的添加研磨液和抛光液，进而保证研磨的质量。

3、主体上设置了水槽，并且连接到收集盒，可以将研磨液进行收集，以便循环利用。

4、设置了搅拌装置，可以防止研磨液和抛光液沉积，进而保证研磨后的产品端面一致性良好，提高产品的质量。

5、采用的是磁力搅拌机进行搅拌，节省了人力，同时设置了转速调节开关和磁力调节开关，可以控制搅拌子的转速和高度，防止研磨液和抛光液逸出烧杯。