[实用新型]口罩内芯有效
申请号: | 201520041983.3 | 申请日: | 2015-01-22 |
公开(公告)号: | CN204483132U | 公开(公告)日: | 2015-07-22 |
发明(设计)人: | 吴坤山;吴琼 | 申请(专利权)人: | 吴坤山 |
主分类号: | A41D13/11 | 分类号: | A41D13/11 |
代理公司: | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人: | 胡朝阳;孙洁敏 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 口罩 | ||
技术领域
本实用新型涉及口罩加工工艺,尤其涉及一种口罩内芯。
背景技术
雾霾对人体健康具有极大的危害,大量实例和病理表明,雾霾是造成心肌梗死、脑卒中等疾病的原因之一,同时雾霾还可能影响人类生育能力,并威胁交通安全、破坏生态环境。汽车尾气、工业排放废气、建筑工地等地散起的扬尘都是引起雾霾的罪魁祸首。
雾霾中的危害物质主要是指直径小于或等于2.5微米的、可入肺的细颗粒物。就雾霾防护口罩而言,目前还没统有一标准,市面上也没有能够有效对抗雾霾中PM2.5细颗粒物的口罩。预防“非典”传播的N95口罩对PM2.5细颗粒物也没有明显滤除效果,至于其他类型的口罩,如24层纱布口罩、KN90型活性炭口罩等效果也都不佳。
实用新型内容
本实用新型旨在解决上述现有技术中存在的问题,提出一种口罩内芯。
本实用新型提出的口罩内芯由外至内依次包括层叠排列的双电子层、超滤膜、活性炭吸附层以及普通布料层。
优选地,所述双电子层由外至内依次包括层叠排列的纳米光触媒布料层与正电荷布料层,或正电荷布料层与纳米光触媒布料层。
优选地,所述普通布料层由一层或多层无纺布或纱布层叠构成。
优选地,所述纳米光触媒布料层包括一层或多层由纳米光触媒材料进行表面处理后的无纺布或纱布。
优选地,所述正电荷布料层包括一层或多层由带正电荷海洋生物提取物进行表面处理后的无纺布或纱布。
优选地,所述超滤膜为孔径小于0.7毫米的浸透膜。
采用本实用新型提出的口罩内芯制成的口罩基于双电子层、超滤膜和活性炭吸附层的多重滤除,可有效滤除PM2.5细颗粒物中对人体有害的成分,同时也可以用于滤除病毒和一般受工业污染大气中对人体有害的成分。
附图说明
图1为本实用新型提出的口罩内芯结构示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施例及附图对本实用新型作进一步详细说明。下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本实用新型的技术方案,而不应当理解为对本实用新型的限制。
本实用新型提供一种具有防雾霾、工业污染和病毒功效的口罩内芯。如图1所示,所述口罩内芯由外至内依次包括层叠排列的双电子层100、超滤膜200、活性炭吸附层300以及普通布料层400。其中,双电子层100由外至内依次包括层叠排列的纳米光触媒布料层110与正电荷布料层120,或正电荷布料层120与纳米光触媒布料层110,即纳米光触媒布料层110与正电荷布料层120的内外层排序方式任意。
对于纳米光触媒布料层110,本实用新型优选采用无纺布或棉纱布作为基础材料,使用纳米光触媒材料对其进行表面处理,形成一种纳米光触媒的无纺布或棉纱布。利用光触媒可以释放出自由电子,将PM2.5细颗粒物中的总挥发性有机物(Total Volatile Organic Compounds, TVOC)分解为无害成分,从而起到吸附PM2.5细颗粒物中带正电颗粒的功效。纳米二氧化钛和氧化锌具有杀菌、灭螨和消炎的作用。所述纳米光触媒材料可以选用纳米二氧化钛、纳米氧化锌等光电半导材料;所述海洋生物提取物可以选用甲壳素、几丁聚糖、季铵盐、磺酸盐类等带正电荷物质。
对于正电荷布料层120,本实用新型优选采用带正电荷的海洋生物提取物处理无纺布和棉纱布,使得正电荷布料层120能有效地吸附PM2.5细颗粒物中的带负电颗粒。
对于超滤膜200,可优选采用孔径小于0.7微米的浸透膜制成,用于过滤PM2.5(2.5微米)细颗粒物中的其他有害颗粒物。
活性炭吸附层300可以用于吸附PM2.5细颗粒物中经上述滤除步骤后剩余的其他颗粒。
普通布料层400可由一层或多层无纺布或纱布层叠制成。
采用本实用新型提出的口罩内芯制成的口罩基于双电子层、超滤膜和活性炭吸附层的多重滤除,可有效滤除PM2.5细颗粒物中对人体有害的成分,同时也可以用于滤除病毒和一般受工业污染大气中对人体有害的成分。
虽然本实用新型参照当前的较佳实施方式进行了描述,但本领域的技术人员应能理解,上述较佳实施方式仅用来解释和说明本实用新型的技术方案,而并非用来限定本实用新型的保护范围,任何在本实用新型的精神和原则范围之内,所做的任何修饰、等效替换、变形、改进等,均应包含在本实用新型的权利要求保护范围之内。
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