[发明专利]一种过滤蓝光杀菌耐磨镜片及其制备方法

权利要求书

1.一种过滤蓝光杀菌耐磨镜片，包括基片，其特征在于：所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层和第五膜层；所述第一膜层为五氧化三钛层，厚度为10-100nm；所述第二膜层为二氧化硅层，厚度为50-100nm；所述第三膜层为金属层，厚度为5-20nm；所述第四膜层为纳米银层，厚度为5-20nm；所述第五膜层为高硬度层，厚度为10-50nm。

2.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌耐磨镜片，其特征在于：所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并由电子枪蒸镀成型。

3.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌耐磨镜片，其特征在于：所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。

4.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌耐磨镜片，其特征在于：所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。

5.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌耐磨镜片，其特征在于：所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并由电子枪蒸镀成型；所述银的氧化物为Ag₂O、AgO或Ag₂O₃。

6.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌耐磨镜片，其特征在于：所述基片由树脂或玻璃成型。

7.根据权利要求6所述过滤蓝光杀菌耐磨镜片的制备方法，其特征在于：所述基片由树脂成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：

1）对基片进行清洗、干燥；

2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；

A、镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

B、镀第二膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7?/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

C、镀第三膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1?/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；

D、镀第四膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，其中第四膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下第四膜层的膜材的氧离子分离，第四膜层的膜材中的银以纳米级分子形式附着于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为1?/S，第四膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层；其中，所述银的氧化物为Ag₂O、AgO或Ag₂O₃；

E、镀第五膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7?/S，第五膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第五膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层。