[发明专利]一种杀菌防强光耐磨镜片及其制备方法在审
| 申请号: | 201511028414.6 | 申请日: | 2015-12-31 |
| 公开(公告)号: | CN105467619A | 公开(公告)日: | 2016-04-06 |
| 发明(设计)人: | 吴晓彤;方俊勇 | 申请(专利权)人: | 奥特路(漳州)光学科技有限公司 |
| 主分类号: | G02C7/10 | 分类号: | G02C7/10;G02B5/20;G02B1/14;G02B1/115 |
| 代理公司: | 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 | 代理人: | 戴雨君 |
| 地址: | 360000 福建省漳*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 杀菌 强光 耐磨 镜片 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种镜片技术领域,尤其是涉及一种杀菌防强光耐磨镜片及其制备方法。
背景技术
随着人们文化、生活水平的不断提高,视力保健工作的开展,眼镜作为矫正视力或保护眼睛而制作的简单光学器件,在人们生活领域中发挥了重要的作用。眼镜通常是由镜片和镜架组成,从镜片的功能上讲,它具有调节进入眼睛之光量,增加视力,保护眼睛安全和临床治疗眼病等作用。
例如,随着车辆的不断增多以及车辆本身存在的不完善,交通事故也越来越多,特别是夜间行车发生的交通事故,夜行车发生的交通事故往往是由于两车交会时,双方的车灯会使人产生刺眼、眩晕,驾驶员本能的会眯眼,甚至会因为灯光刺眼而失盲几秒钟,这样就容易造成交通事故,为此市场上出现了针对强光刺激眼睛的墨镜、半墨镜,如太阳眼镜等,但是这类眼镜大都是采用偏振光技术制成的镜片,只能减少漫反射光线的照射而无法真正降低入射光线的强度,对白天强烈阳光对人眼刺激造成炫目有一定的防眩晕和挡光作用,但是在黑暗的夜里,对减少驾驶员夜间会车造成的强光刺激效果不好。
再如,目前常见的TAC偏光镜片,其可100%阻隔有害光线,因此颇受消费者的青睐,特别适于户外运动使用,然而,在运动过程中镜片难免发生刮擦,因此镜片的耐磨程度也是消费者选购的一个考虑因素,目前市售的TAC偏光镜片,其表面的硬度只能达到H,其耐磨性为1.5级,很容易被硬物刮花或摔坏,影响使用者观察事物的效果,既给使用者带来不便,而且还需经常更换,增加使用成本,有待改进。
此外,眼镜在长期佩戴后,镜片不仅容易滋生细菌,而且还容易吸附周围环境中的灰尘等细小颗粒,从而不利于佩戴者的身体健康,污染镜片,影响其透光性。
然而,现有镜片的功能都比较单一,越来越不能满足人们的需求。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足,提供一种具有优良的杀菌抗菌功能和防强光性能,耐磨性好的杀菌防强光耐磨镜片及其制备方法。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种杀菌防强光耐磨镜片,包括基片,所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层、第二膜层和第三膜层;所述第一膜层为纳米银层,厚度为5-20nm;所述第二膜层为高反射金属层,厚度为10-50nm;所述第三膜层为高硬度层,厚度为10-50nm。
所述纳米银层的膜材为银的氧化物,并由电子枪蒸镀成型;所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3。
所述高反射金属层膜材为铬或银,并由电子枪蒸镀成型。
所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体,并由电子枪蒸镀成型。
所述基片由树脂或玻璃成型。
一种杀菌防强光耐磨镜片的制备方法,所述基片由树脂成型时,该制备方法具体包括以下步骤:
1)对基片进行清洗、干燥;
2)分别对基片的内、外两个表面进行镀膜;
A、镀第一膜层:
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕,并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第一膜层的膜材,其中第一膜层的膜材为银的氧化物,在电子枪蒸镀的作用下第一膜层的膜材的氧离子分离,第一膜层的膜材中的银以纳米级分子形式沉积于基片的外表面,同时控制第一膜层蒸镀的速率为1?/S,第一膜层最终形成后的厚度为5-20nm;其中,所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3;
B、镀第二膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第二膜层的膜材,第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面,同时控制第二膜层蒸镀的速率为1.5?/S,第二膜层最终形成后的厚度为10-50nm;其中,所述第二膜层的膜材为铬或银,形成高反射金属层;
C、镀第三膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第三膜层的膜材,第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面,同时控制第三膜层蒸镀的速率为7?/S,第三膜层最终形成后的厚度为10-50nm;其中,所述第三膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体,形成高硬度层。
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