[发明专利]一种应用于超分辨的光束复振幅复合调制装置和方法在审

专利信息
申请号: 201511027013.9 申请日: 2015-12-31
公开(公告)号: CN105425411A 公开(公告)日: 2016-03-23
发明(设计)人: 张雨东;付瀚初;魏凯;高洪涛 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G02B27/58 分类号: G02B27/58
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地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 应用于 分辨 光束 振幅 复合 调制 装置 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种应用于超分辨成像的,在原有光学系统的后端实现光束复振幅复合调制的技术手段。特别适用于在不改变原光学系统的结构情况下,提升其分辨能力。

背景技术

在光学成像波长一定的情况下,光学系统的理论分辨率与光学系统的孔径成反比。受光学系统制造成本和其他设计因素的影响,光学系统的孔径无法无限制增大。光学系统的分辨率可以用远场点扩散函数(PSF,PointSpreadFunction)的主瓣半径表示。根据傅里叶光学的相关原理,光学系统的远场点扩散函数是系统瞳面函数的傅里叶变换,因此,利用瞳面滤波器改变光学系统瞳面复振幅分布,进而实现改变系统远场点扩散函数,是在有限口径光学系统内实现更高分辨率的一种有效方式。

根据瞳面滤波器对光学系统调制对象的区别,瞳面滤波器分为瞳面振幅调制器、瞳面相位调制器和瞳面复振幅调制器。在实际加工过程中,对复杂面型加工时存在加工难度大,成品误差大的问题,而简单面型的瞳面滤波器则只能实现有限的调制效果。这是限制瞳面滤波器广泛应用的重要原因。

变形镜(DeformableMirror,DM),又称波前校正器,由很多单元组合而成,每个单元都有自己独立的控制器,在外加电压控制下,可以动态连续改造波面的面形,实现对波前相位的动态调制。变形镜变形范围受到驱动器分布和驱动器行程的影响,其面型无法在短距离内实现大幅度变化,所以对波前相位的调制局限于低空间频率范围。

发明内容

本发明的技术解决问题是:克服现有技术的不足,提供了一种应用于超分辨的光束复振幅复合调制装置和方法,在探测波长一定,光学孔径一定的情况下提高光学系统分辨率的手段。

本发明的技术解决方案是:提出一种应用于超分辨的光束复振幅复合调制装置,其特征在于包括:前端光学系统、瞳面复振幅调制系统、转束平面反射镜、离轴抛物面反射镜、第一球面反射镜、变形镜、第二球面反射镜、第三球面反射镜、成像透镜、成像CCD和数据处理计算机;

瞳面复振幅调制系统包括:瞳面振幅滤波器,瞳面相位滤波器和同轴双滤波片切换架;

前端光学系统对目标发出的光收集转折后沿光轴方向出射,瞳面复振幅调制系统位于前端光学系统的出瞳位置,对前端光学系统出射光束进行复振幅调制,当光束通过瞳面振幅滤波器时,光束口径内不同位置的光学透过率不同,实现对光束振幅的调制,当通过瞳面相位滤波器时,光束口径内不同位置的光程不同,实现对光束相位的调制;接着光束经平面反射镜、离轴抛物面反射镜和球面反射镜后到位于出瞳共轭面的变形镜处,变形镜实现对光束的高阶相位调制,瞳面复振幅调制系统和变形镜联合对光束复振幅实现复合调制,其中:瞳面复振幅调制系统能够实现瞳面复振幅的低阶调制,变形镜实现瞳面相位的高阶调制,弥补瞳面复振幅调制系统调制空间频率不足的缺点;

经调制后的光束再经第二球面反射镜、第三球面反射镜后由成像透镜汇聚于成像CCD靶面之上,数据处理计算机针对CCD采集到的图像进行分析,修正变形镜的面形,实现超分辨率成像。

所述的应用于超分辨的光束复振幅复合调制装置,其特征在于:所述瞳面振幅滤波器和瞳面相位滤波器放置在同轴双滤波片切换架上。

所述的应用于超分辨的光束复振幅复合调制装置,其特征在于:所述同轴双滤波片切换架的每个切换架上,同时加装多片调制函数不同的瞳面振幅滤波器和瞳面相位滤波器;在不影响到其他光路的情况下,可以直接切换不同的瞳面振幅滤波器和瞳面相位滤波器,以组合出不同的瞳面复振幅调制函数,适应不同的观测目标和环境噪声下超分辨率成像的需求。

所述的应用于超分辨的光束复振幅复合调制装置,其特征在于:变形镜镜面初始面形由选定的瞳面复振幅调制系统的调制函数,与超分辨所需的瞳面调制函数之间的差别决定。

所述的应用于超分辨的光束复振幅复合调制装置,其特征在于:所述瞳面振幅调制器的加工过程包括:根据所设计透过率不同区域按照光透过率从高到低的顺序依次排序,首先对掩模板加涂最高透过率的遮光材料,其次对除最高透过率区域的其他区域加涂次高透过率的遮光材料,直到完全不透光的遮光材料。

所述的应用于超分辨的光束复振幅复合调制装置,其特征在于:所述瞳面相位滤波器的加工过程包括:首先制作出所需相位分布的掩模版,将透光区域和不透光区域分开,然后利用光刻技术经曝光和显影两个步骤将掩模版图形转印到涂在基片表面的光刻胶上,最后利用刻蚀技术将光刻胶形成的图形转印到基底上,只需要刻蚀一次,避免多次刻蚀产生的掩模版对中误差。

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