[发明专利]有机发光显示装置和制造该有机发光显示装置的方法有效
| 申请号: | 201511019813.6 | 申请日: | 2015-12-30 |
| 公开(公告)号: | CN105742325B | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
| 发明(设计)人: | 崔光赫;李清;金炫准;金慧暎;吴相宪;全星庆;曺奎哲 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;尹淑梅 |
| 地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 有机 发光 显示装置 制造 方法 | ||
1.一种有机发光显示装置,所述有机发光显示装置包括:
下基底,包括透明玻璃材料、陶瓷材料、透明塑料材料或透明金属材料;
有机发光器件,在所述下基底上并且包括第一电极、第二电极以及位于所述第一电极与所述第二电极之间的有机发射层;以及
柔性膜,在所述下基底下方,
其中,所述柔性膜包括:
基体;以及
第二阻挡层,设置在所述基体上。
2.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中,所述第二阻挡层包括金属氮化物、金属氧化物、无机材料或金属薄膜。
3.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中,所述第二阻挡层包括金属氮化物、金属氧化物、无机材料和金属薄膜中的至少两种,并包括两个或更多个薄膜层。
4.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中,所述柔性膜包括在所述第二阻挡层上的粘合层。
5.根据权利要求4所述的有机发光显示装置,其中,所述粘合层包括永久粘合剂或临时粘合剂。
6.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,所述有机发光显示装置还包括在所述下基底和所述有机发光器件之间的第一阻挡层。
7.根据权利要求6所述的有机发光显示装置,其中,所述第一阻挡层包括金属氮化物、金属氧化物、无机材料或金属薄膜。
8.根据权利要求7所述的有机发光显示装置,其中,所述第一阻挡层包括AlOx、TiOx、SiOx、AlNx、AlON、TiNx、TiONx、SiNx、SiONx、Al、Ti、Mo、Ag、Cu、Fe、Cr、Ni、Zn或Sn。
9.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中,所述基体包括聚合物。
10.根据权利要求9所述的有机发光显示装置,其中,所述基体包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯或者聚醚砜。
11.一种制造有机发光显示装置的方法,所述方法包括:
在母基底上顺序地堆叠下基底和有机发光器件;
利用准分子激光剥离工艺将所述母基底与所述下基底分离;
通过在单独的基体上顺序地堆叠第二阻挡层和粘合层来形成柔性膜;以及
在所述下基底下方附着所述柔性膜,
其中,所述下基底包括透明玻璃材料、陶瓷材料、透明塑料材料或透明金属材料。
12.根据权利要求11所述的方法,其中,所述第二阻挡层包括金属氮化物、金属氧化物、无机材料或金属薄膜。
13.根据权利要求11所述的方法,其中,所述第二阻挡层包括金属氮化物、金属氧化物、无机材料和金属薄膜中的至少两种,并且形成为两个或更多个薄膜层。
14.根据权利要求11所述的方法,其中,通过执行物理气相沉积方法、化学气相沉积方法、湿式薄膜形成方法或者片粘结工艺在所述基体上堆叠所述第二阻挡层。
15.根据权利要求11所述的方法,其中,所述粘合层包括防止湿气和氧的渗透的永久粘合剂或临时粘合剂。
16.根据权利要求11所述的方法,所述方法还包括在所述下基底和所述有机发光器件之间形成第一阻挡层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





