[发明专利]一种基于量子限制斯塔克效应的电光调制器件制备方法有效

专利信息
申请号: 201511019319.X 申请日: 2015-12-29
公开(公告)号: CN105487264B 公开(公告)日: 2018-11-09
发明(设计)人: 张家雨;樊恺;廖晨 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: G02F1/017 分类号: G02F1/017
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 210096*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 量子 限制 斯塔克效应 电光 调制 器件 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种基于CdSe/CdS量子点的制备方法,其特征在于该制备方法如下:

1)60mg氧化镉、280mg十八烷基磷酸、3g三正辛基氧化磷加入50mL烧瓶,在150℃通入氩气1h,保证氩气氛围;

2)在氩气氛围下,升温至320℃直至溶液呈无色透明,降至室温后加入1g三正辛基膦;

3)继续升温,直至380℃,迅速注入溶有60mg硒粉的0.5mL三正辛基膦,得到合适尺寸的CdSe核量子点,降温后,提纯并溶于正己烷准备包层;

4)将上面提纯干净的CdSe核量子点与3mL十八烯和3mL油胺混合,室温下通入氩气1h,然后升温至120℃再通入氩气20min,保证正己烷除尽;

5)继续升温至310℃,此时用恒流泵注入浓度为0.1mol/L的油酸镉和辛硫醇的混合物,注入速度设定为3mL/h,得到尺寸合适的纯纤锌矿相非闪烁CdSe/CdS量子点。

2.一种采用权利要求1的制备方法所制备的量子点的量子限制斯塔克器件的制备方法,其特征在于基于CdSe/CdS量子点的量子限制斯塔克器件是以石英片为衬底,制备方法如下:

1)衬底脱水烘烤,在真空或干燥氮气的气氛中,以150~200℃烘烤;

2)旋转涂胶,石英衬底上涂一层负su8光刻胶,厚度为2μm;

3)软烤,去除光刻胶中的大部分溶剂并使胶的曝光特性固定,软烤温度是90~100℃,时间为10min;

4)用周期性交叉结构的掩膜版挡住衬底进行曝光;

5)曝光后烘烤,激活曝光后的光刻胶化学性能,温度为90℃,时间为5min;

6)显影,浸泡在浓度为5%的NaOH溶液,通过控制浸泡时间控制显影程度;

7)硬烤,在真空或干燥氮气的气氛中,以150~200℃烘烤,去除残余显影液和蒸馏水;

8)用高真空镀膜机镀上一层厚度为2μm的Au;

9)用丙酮的光刻胶清洗液浸泡已镀Au的石英片,去除su-8及其上面的Au得到周期性Au电极结构,电极左右两侧凸出来的部分为外接电压的正负极;

10)在倒置显微镜下,将纯纤锌矿相非闪烁的CdSe/CdS量子点滴在交叉电极之间,利用白光光源测量通上电压前后的透射谱变化。

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