[发明专利]环保型硫酸盐垢清洗剂在审
| 申请号: | 201511008488.3 | 申请日: | 2015-12-29 |
| 公开(公告)号: | CN105602741A | 公开(公告)日: | 2016-05-25 |
| 发明(设计)人: | 邱振华;张祥彬 | 申请(专利权)人: | 山东英联化学科技有限公司;淄博华诺水处理技术有限公司 |
| 主分类号: | C11D1/22 | 分类号: | C11D1/22;C11D3/20;C11D3/33;C11D3/37;C11D3/60 |
| 代理公司: | 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 | 代理人: | 马俊荣 |
| 地址: | 255086 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 环保 硫酸盐 洗剂 | ||
技术领域
本发明涉及一种环保型硫酸盐垢清洗剂,属于水处理技术领域。
背景技术
在工业生产中,经常会遇到设备结垢问题,常见的水垢成分有碳酸盐、硫酸盐、硅酸盐、 磷酸盐等,这些水垢中除硫酸盐外,一般可以用酸洗或碱洗的方法去除,而硫酸盐垢却很难 采用一般的酸洗或碱洗去除,通常用专门的工具或设备等机械除垢,这种机械除垢法很难去 除干净,并且对设备损伤较大。
CN101705159A公开了一种“清洗剂”,清洗剂由有机羧酸、表面活性剂OP-10、渗透JFC 和水组成。
CN101913713A公开了一种“一种硫酸盐垢清洗剂”,该清洗剂由有机羧酸盐、有机膦酸 盐、还原剂、表面活性剂和水组成;CN103806009A公开了一种“一种中性硫酸盐清洗剂”, 该清洗剂由有机膦酸、化学助溶剂、非离子表面活性剂、调值剂、还原剂和水组成。这两个 专利中的清洗剂均含有有机膦,后期排放后会使环境水域富营养化,对环境造成破坏。
发明内容
本发明的目的是提供一种环保型硫酸盐垢清洗剂,其能彻底清除系统中的硫酸盐垢,而 且对碳钢、铜、不锈钢等材质的腐蚀速率比较小,清洗工艺简单,而且配方中不含磷,中和 后对环境无污染。
所述环保型硫酸盐垢清洗剂,由以下重量百分含量的原料制成:乙二胺四乙酸二钠1~5%, 柠檬酸10~20%,表面活性剂0~1%,丙烯酸丙烯酸羟丙酯共聚物20~40%,丙烯酸2-丙烯酰 胺-2-甲基丙磺酸共聚物20~40%,余量为去离子水。
优选地,由以下重量百分含量的原料制成:乙二胺四乙酸二钠1~5%,柠檬酸15~20%, 表面活性剂0~1%,丙烯酸丙烯酸羟丙酯共聚物15~40%,丙烯酸2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸共 聚物30~40%,余量为去离子水。
所述乙二胺四乙酸二钠为含有两分子结晶水的乙二胺四乙酸二钠盐。
所述柠檬酸为一水柠檬酸或无水柠檬酸。
所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠或十二烷基磺酸钠。
所述的丙烯酸丙烯酸羟丙酯共聚物和丙烯酸2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸共聚物均为羧酸类 二元共聚物,对硫酸盐溶解效果好,溶解时间短;乙二胺四乙酸二钠对水中的二价金属离子 螯合能力比较强,通过其螯合作用可增加硫酸盐在水中的溶解度;柠檬酸是一种三羧酸类化 合物,主要是清洁金属表面,可溶解氧化铁和氧化铜;所述的表面活性剂是一种阴离子表面 活性剂,具有优异的渗透、洗涤、润湿、去污的作用,可明显增加清洗剂的清洗效果。
与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:
(1)配方中不含强酸,对设备腐蚀速率比较小;
(2)配方中不含磷,对环境无污染;
(3)配方中的聚合物均为二元共聚物,去除硫酸盐垢速率快;
(4)成本低,配制工艺简单,清洗在常温下即可进行。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步的说明,但其并不限制本发明的实施。
实施例1
依次将丙烯酸丙烯酸羟丙酯共聚物40%、丙烯酸2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸共聚物20%、 去离子水27.5%,在常温下加入反应设备中,搅拌过程中再依次加入乙二胺四乙酸二钠2%、 柠檬酸10%、表面活性剂十二烷基苯磺酸钠0.5%到反应设备中,搅拌均匀溶解后静置即得。
实施例2
依次将丙烯酸丙烯酸羟丙酯共聚物20%、丙烯酸2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸共聚物20%、 去离子水34.8%,在常温下加入反应设备中,搅拌过程中再依次加入乙二胺四乙酸二钠5%、 柠檬酸20%、表面活性剂十二烷基磺酸钠0.2%到反应设备中,搅拌均匀溶解后静置即得。
实施例3
依次将丙烯酸丙烯酸羟丙酯共聚物30%、丙烯酸2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸共聚物40%、 去离子水13.9%,在常温下加入反应设备中,搅拌过程中再依次加入乙二胺四乙酸二钠1%、 柠檬酸15%、表面活性剂十二烷基磺酸钠0.1%到反应设备中,搅拌均匀溶解后静置即得。
实施例4
依次将丙烯酸丙烯酸羟丙酯共聚物25%、丙烯酸2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸共聚物35%、 去离子水22%,在常温下加入反应设备中,搅拌过程中再依次加入乙二胺四乙酸二钠3%、 柠檬酸15%到反应设备中,搅拌均匀溶解后静置即得。
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