[发明专利]一种抗降解和抗菌性能良好的二氧化铈掺杂硅酸钙涂层及其制备方法和应用有效
| 申请号: | 201510990903.3 | 申请日: | 2015-12-24 |
| 公开(公告)号: | CN106913905B | 公开(公告)日: | 2020-02-14 |
| 发明(设计)人: | 李恺;谢有桃;黄利平;郑学斌 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 主分类号: | A61L27/30 | 分类号: | A61L27/30;A61L27/50;A61L27/54;C23C4/134;C23C4/11 |
| 代理公司: | 31261 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 曹芳玲;郑优丽 |
| 地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 二氧化铈 硅酸钙 掺杂 制备方法和应用 等离子体喷涂 生物相容性 基材表面 抗降解性 抗菌活性 抗菌性能 缺陷问题 生物活性 生物涂层 替换材料 掺杂的 基粉体 抗降解 抗菌性 硬组织 喷涂 修复 赋予 | ||
1.一种二氧化铈掺杂硅酸钙涂层的制备方法,其特征在于,所述二氧化铈掺杂硅酸钙涂层由二氧化铈掺杂的硅酸钙基粉体通过等离子体喷涂技术喷涂在基材表面形成;所述涂层对金黄色葡萄球菌、大肠杆菌的抗菌率达到99%以上,所述制备方法包括:以二氧化铈掺杂的硅酸钙基粉体为原料,采用等离子体喷涂技术将所述原料喷涂在基材表面,得到所述二氧化铈掺杂硅酸钙涂层;等离子喷涂工艺的条件如下:等离子体气体Ar流量为30~50slpm;等离子体气体 H2 流量为6~18 slpm;粉末载气Ar流量为1.5~5 slpm;喷涂距离为80~330毫米;喷涂功率为30~55千瓦;送粉速率为8.0~30克/分钟。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述二氧化铈掺杂的硅酸钙基粉体中二氧化铈的质量分数为10~50%,所述的粉体是由粒径为10~200微米的颗粒组成。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述二氧化铈掺杂的硅酸钙基粉体由固相烧结法制得,具体包括:按照10~50:25~45 :42~75的质量比将二氧化铈粉、二氧化硅粉体、碳酸钙粉体混合球磨,于1100~1450℃保温1~3小时后得到混合粉体,将混合粉体过筛、烘干后得到所述二氧化铈掺杂的硅酸钙基粉体。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备方法,其特征在于,所述基材为纯钛、钛合金、不锈钢或钴铬钼合金。
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