[发明专利]一种高性能钽溅射靶材制备方法

权利要求书

1.一种高性能钽溅射靶材制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

a.对高纯钽铸锭进行冷却锻造，使锻造过程中铸锭表面温度≤100℃，所述 高纯钽的纯度≥99.99％；

b.对铸锭进行米字交叉轧制，即首先沿第一方向(1)进行多次轧制，再转 至第二方向(2)进行多次轧制，第一方向(1)和第二方向(2)夹角为90°； 然后再转至第三方向(3)进行多次轧制，第三方向(3)与第一方向(1)或第 二方向(2)的夹角为45°，最后转至第四方向(4)进行多次轧制，第四方向(4) 与第三方向(3)的夹角为90°，形成米字交叉轧制；

c.对轧制后的靶坯进行再结晶退火；

d.最后对再结晶的钽板进行机加工。

2.根据权利要求1所述一种方法，其特征在于，步骤a中所述冷却锻造采 用风冷或水冷。

3.根据权利要求1所述一种方法，其特征在于，步骤a中所述冷却锻造进 行多次，中间退火在真空或惰性气体保护下进行，退火温度为800～1200℃。

4.根据权利要求1所述一种方法，其特征在于，步骤b中所述多次轧制为 2～5次，每次轧制的变形量控制在10％～25％，米字交叉轧制的总变形量≥70％。

5.根据权利要求1所述一种方法，其特征在于，步骤c中所述再结晶退火 在真空或惰性气体保护状态下进行，退火温度为800～1200℃。

6.权利要求1-5任一权利要求所述一种方法，其特征在于，溅射靶材的晶 粒尺寸≤80μm，分布均匀，溅射面的择优取向<111>的含量≥50％，纵截面的 择优取向<110>的含量控制在20％～40％，在极图中呈圆周均匀分布。

7.权利要求1-5任一权利要求所述一种方法，其特征在于，靶材溅射薄膜 的厚度跳动范围为±3％以下。