[发明专利]一种黄铜矿结构的稀磁半导体材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510965170.8 申请日: 2015-12-21
公开(公告)号: CN105523527B 公开(公告)日: 2018-08-28
发明(设计)人: 郭永权;解娜娜 申请(专利权)人: 华北电力大学
主分类号: C01B19/00 分类号: C01B19/00
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 黄家俊
地址: 102206 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 黄铜矿 结构 半导体材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种黄铜矿结构的稀磁半导体材料,其特征在于,所述稀磁半导体材料的化学式为CuIn1-xCoxTe2;其中0<x≤0.4;

所述的稀磁半导体材料的制备方法包括以下步骤:

(1)根据化学式CuIn1-xCoxTe2的化学计量比配制Cu、In、Co、Te四种单质元素;

(2)在惰性气体的保护下反复熔炼Cu、In、Co单质3-4遍,得到成分均匀的Cu-In-Co前驱合金;

(3)将Cu-In-Co前驱合金和Te混合后研磨成粉,并用压片机压制成片;

(4)将压制成的片装入充满惰性气体的真空石英玻璃管中,并将其置于马弗炉中在300-800℃下进行热处理;

(5)重复步骤(4)1-2遍,获得经热处理后的样品;

(6)取出经热处理后的样品在冷水中冷却,然后真空研磨成粒径为100-10000nm的粉末;

(7)将粉末放入真空箱中烘干后得到粗品,再经抽滤分离提纯后得到具有黄铜矿结构的稀磁半导体材料;

制备得到的稀磁半导体材料的晶体结构为黄铜矿结构,并具有室温铁磁性。

2.一种黄铜矿结构的稀磁半导体材料,其特征在于,所述稀磁半导体材料的化学式为CuIn0.9Co0.1Te2

所述的稀磁半导体材料的制备方法包括以下步骤:

(1)根据化学式CuIn0.9Co0.1Te2的化学计量比配制Cu、In、Co、Te四种单质元素;

(2)在惰性气体的保护下反复熔炼Cu、In、Co单质3-4遍,得到成分均匀的Cu-In-Co前驱合金;

(3)将Cu-In-Co前驱合金和Te混合后研磨成粉,并用压片机压制成片;

(4)将压制成的片装入充满惰性气体的真空石英玻璃管中,并将其置于马弗炉中在300-800℃下进行热处理;

(5)重复步骤(4)1-2遍,获得经热处理后的样品;

(6)取出经热处理后的样品在冷水中冷却,然后真空研磨成粒径为100-10000nm的粉末;

(7)将粉末放入真空箱中烘干后得到粗品,再经抽滤分离提纯后得到具有黄铜矿结构的稀磁半导体材料;

制备得到的稀磁半导体材料的晶体结构为黄铜矿结构,并具有室温铁磁性,居里温度为980K,并且在该温度处仍具有铁磁性。

3.根据权利要求1或2所述的一种黄铜矿结构的稀磁半导体材料,其特征在于,制备方法步骤(1)中所述Cu、In、Co和Te单质的纯度在99.9%以上。

4.根据权利要求1或2所述的一种黄铜矿结构的稀磁半导体材料,其特征在于,制备方法步骤(2)中所述熔炼在非自耗真空电弧炉中进行,熔炼电流为40A-200A。

5.根据权利要求1或2所述的一种黄铜矿结构的稀磁半导体材料,其特征在于,制备方法步骤(4)中所述热处理的时间为4-6周。

6.根据权利要求1或2所述的一种黄铜矿结构的稀磁半导体材料,其特征在于,制备方法步骤(2)与步骤(4)中所述的惰性气体为氮气或氩气。

7.根据权利要求1或2所述的一种黄铜矿结构的稀磁半导体材料,其特征在于,制备方法步骤(6)中所述的真空研磨在球磨机中进行,转速为400-600r/min,球磨时间为6-14h。

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