[发明专利]显示装置和制造显示装置的方法

权利要求书

1.一种制造显示装置的方法，所述方法包括：

利用电解质处理流体处理母衬底的表面；

在利用所述电解质处理流体处理过的所述母衬底上形成机械剥离层，所述机械剥离层包含石墨烯氧化物和蒙脱石中的至少一个；以及

通过在所述机械剥离层上形成彼此间隔开的多个聚酰亚胺层而在所述母衬底的表面上形成衬底，

其中所述机械剥离层通过静电引力附接至所述聚酰亚胺层和所述母衬底。

2.如权利要求1所述的方法，在利用电解质处理流体处理所述母衬底的表面之前，还包括：

从所述母衬底的表面去除杂质。

3.如权利要求2所述的方法，其中，所述从所述母衬底的表面去除所述杂质包括：

向所述母衬底的表面上喷射氧等离子体。

4.如权利要求1所述的方法，其中，所述利用电解质处理流体处理所述母衬底的表面包括：

利用所述电解质处理流体涂覆所述母衬底的表面；以及

利用非极性水对所述电解质处理流体进行喷射以清洗所述母衬底。

5.如权利要求4所述的方法，其中，所述利用电解质处理流体处理所述母衬底的表面还包括：

在清洗所述母衬底之后，通过利用空气对所述电解质处理流体进行喷射以对所述电解质处理流体进行干燥并去除所述电解质处理流体的一部分。

6.如权利要求1所述的方法，其中，所述电解质处理流体包含聚二烯丙基二甲基氯化铵。

7.如权利要求1所述的方法，其中，所述形成所述机械剥离层包括：

横跨所述母衬底散布所述机械剥离层；以及

利用非极性水对所述机械剥离层进行喷射以清洗所述机械剥离层。

8.如权利要求7所述的方法，其中，所述形成所述机械剥离层还包括：

在清洗所述机械剥离层之后，

通过利用空气对所述机械剥离层进行喷射以对所述机械剥离层进行干燥；以及

去除所述机械剥离层的一部分。

9.如权利要求1所述的方法，在形成所述衬底之后，还包括：

在所述衬底上形成显示部分；以及

使所述母衬底与所述衬底分离。

10.一种显示装置，包括：

衬底，包括位于其下部处的机械剥离层，其中所述机械剥离层包含石墨烯氧化物和蒙脱石中的至少一个，并且所述机械剥离层通过静电引力附接至所述衬底；

显示部分，形成在所述衬底上并包括薄膜晶体管和有机发光器件；以及

薄膜封装层，所述薄膜封装层覆盖所述显示部分。