[发明专利]化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液的制造方法有效
| 申请号： | 201510952485.9 | 申请日： | 2014-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN105566062B | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | 山中司;川本崇司;井口直也 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C07C29/76 | 分类号： | C07C29/76;C07C45/78;C07C67/48;G03F7/32;G03F7/038;G03F7/039 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨文娟;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 增幅 型抗蚀剂膜 图案 化用 有机 处理 及其 制造 方法 应用 | ||
1.一种化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液的制造方法，其包括使含有有机溶剂的液体在具有液体入口部、液体出口部、及设置在将所述液体入口部与所述液体出口部加以连接的流路内的过滤膜的过滤装置中通过的步骤，且
所述液体入口部处的所述液体的温度TI与所述液体出口部处的所述液体的温度To的差的绝对值|TI-To|为3℃以下，所述过滤装置中的所述液体的过滤速度为0.5L/min/m2以上，所述过滤装置中的所述液体的过滤压力为0.10MPa以下，
所述液体入口部处的所述液体的温度TI为20℃以上且30℃以下。
2.根据权利要求1所述的化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液的制造方法，其中所述有机系处理液为有机系显影液。
3.根据权利要求2所述的化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液的制造方法，其中所述含有有机溶剂的液体为乙酸丁酯。
4.根据权利要求1所述的化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液的制造方法，其中所述有机系处理液为有机系淋洗液。
5.根据权利要求4所述的化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液的制造方法，其中所述含有有机溶剂的液体为4-甲基-2-戊醇、或乙酸丁酯。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液的制造方法，其中所述过滤膜是孔径为50nm以下的聚乙烯树脂膜、氟树脂膜、或聚酰胺树脂膜。
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