[发明专利]用于清洗质谱仪中截取锥的装置

说明书

技术领域

本发明涉及仪器的清洗技术领域，特别是涉及一种用于清洗质谱仪中截取锥的装置。

背景技术

电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)技术是20世纪70年代迅速发展起来的分析测试技术，其原理是利用电感耦合等离子体将分析样品中所含的元素离子化为带电离子，通过将带电离子引入质量分析器中，按不同质荷比分开，经检测器将离子电流放大后，由测控系统处理给出分析结果。与其它分析技术相比，电感耦合等离子体质谱技术已发展成本领域的一种常规分析测试技术。

采用电感耦合等离子体质谱技术的电感耦合等离子体质谱仪包括截取锥和离子透镜。其中，如图1所示，截取锥1包括底座3、固定在底座3的上表面的锥头2以及固定在底座3的下表面的螺纹接口4，所述上、下表面背对设置。螺纹接口4的外壁5设有螺纹(未图示)，螺纹接口4用于与离子透镜螺纹配合，锥头2设有锥孔6。样品经离子化所产生的离子通过截取锥1的锥孔6后在离子透镜的电场作用下聚焦成离子束并进入离子分离系统。

使用一段时间之后，截取锥1的锥头2因暴露在等离子体环境中因而表面会形成一层沉积物，需对锥头2定期进行清洗以去除该沉积物。现有清洗锥头2的方法是：如图2所示，在一容器7中倒入清洗液(未标识，图中用虚线所示)，将整个截取锥1浸泡在清洗液中，该清洗液一般为酸液。

然而，在上述清洗过程中，截取锥1的螺纹接口4也会浸泡在清洗液中，清洗液会腐蚀螺纹接口4，造成螺纹接口4无法继续与离子透镜配合使用，进而导致整个截取锥1报废。

发明内容

本发明要解决的问题是：现有电感耦合等离子体质谱仪中截取锥的锥头的清洗方法会腐蚀截取锥的螺纹接口，导致整个截取锥报废。

为解决上述问题，本发明提供了一种用于清洗质谱仪中截取锥的装置，所述截取锥包括底座和固定在所述底座的上表面的锥头，所述装置包括：

本体；

设置在所述本体的表面上的至少一个清洗槽，所述清洗槽用于盛放清洗液，并至少能容纳所述截取锥的锥头，且所述锥头伸入所述清洗槽内时，所述底座的上表面能与本体接触以使所述本体将底座支撑住。

可选地，所述清洗槽的开口大小设置为：所述锥头伸入所述清洗槽内时，所述清洗槽的开口所在的表面将所述底座的上表面支撑住。

可选地，所述清洗槽包括沿深度方向依次设置并连通的第一、二段槽，所述清洗槽的开口设置在所述第一段槽上；

所述第一段槽能容纳所述截取锥的底座，所述第二段槽能容纳所述截取锥的锥头，所述第一段槽的开口口径大于所述第二段槽的开口口径，且第二段槽的开口大小设置为：所述锥头伸入所述第二段槽内时，所述第二段槽的开口所在的表面将所述底座的上表面支撑住

可选地，还包括：设置在所述本体的表面上的导液槽，所述导液槽的开口与清洗槽的开口位于同一表面上，所述导液槽与所述清洗槽连通；

所述导液槽具有入液口和出液口，所述清洗槽内的清洗液适于自所述入液口流向所述导液槽内，最后从所述出液口倒出，所述出液口贯穿所述本体。

可选地，自所述入液口指向所述出液口的方向上，所述导液槽的深度逐渐减小。

可选地，还包括：设置在所述本体的侧面上的手持部，所述手持部供人手持拿所述本体。

可选地，所述手持部为两个背对设置的凹槽。

可选地，所述本体的材质为PFA。

可选地，所述清洗槽的大小适于同时容纳至少两个所述锥头。

可选地，所述质谱仪为电感耦合等离子体质谱仪。

与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：

在清洗截取锥的锥头时，向清洗槽内倒入所需量的清洗液，然后，手动将锥头伸入清洗槽内，当锥头伸入至底座的上表面与本体接触时，本体将底座支撑住。通过控制清洗槽内清洗液的量，能够实现截取锥中仅有锥头浸泡在清洗液中，而截取锥的螺纹接口未浸泡在清洗液中。浸泡一段时间之后，即可以将锥头清洗干净。这样一来，利用本发明所提供的用于清洗质谱仪中截取锥的装置可以实现在对截取锥的锥头进行清洗的同时，不让螺纹接口受清洗液的腐蚀，整个截取锥不会报废，延长了截取锥的使用寿命。另外，在清洗过程中，当本体将底座支撑住时，人手即可以释放截取锥，使得清洗操作非常方便。

附图说明

图1是现有电感耦合等离子体质谱仪中截取锥的剖面图；

图2是图1所示截取锥的清洗方法示意图；

图3是本发明的第一实施例中用于清洗质谱仪中截取锥的装置的立体图；

图4是图3所示装置沿AA方向的剖面图；