[发明专利]滤光片、其制备方法与具有其的成像设备有效
申请号: | 201510945531.2 | 申请日: | 2015-12-16 |
公开(公告)号: | CN106886068B | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
发明(设计)人: | 丁慧娟 | 申请(专利权)人: | 张家港康得新石墨烯应用科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G02B5/22 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 赵囡囡;吴贵明 |
地址: | 215634 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 滤光 制备 方法 具有 成像 设备 | ||
本发明提供了一种滤光片、其制备方法与具有其的成像设备。该滤光片包括透明基材层与第一折射率匹配单元,其中,第一折射率匹配单元设置在透明基材层的至少一个表面上,第一折射率匹配单元包括吸收物质,吸收物质的最大吸收波长在500~800nm之间。本申请的滤光片中的吸收物质的最大吸收波长在500~800nm之间,可以消除或者缓解过渡区的半值波长偏移效应,形成图像色彩更加均匀与效果较好的图像。并且,该滤光片的作用与蓝光玻璃的相似,当其成本较低,且其厚度较薄,不会出现蓝玻璃中较严重的成像误差问题。
技术领域
本发明涉及滤光片领域,具体而言,涉及一种滤光片、其制备方法与具有其的成像设备。
背景技术
随着社会的不断进步发展,人们物质生活的不断提高,相机、手机、平板电脑等成像电子设备的普及,人们对于拍摄画面清晰度的要求不断提高。
为了改善图像质量,需要将图像感光芯片的感光范围与人眼相匹配,但现有的感光芯片的感光范围在可见光波段至1100nm的近红外光,其感光范围不能与人眼相匹配。
并且,当入射到感光芯片的光线的入射角度发生变化时,出射光线的半值波长会发生偏移,导致半值波长(透射率T=50%对应的波长值)偏移效应,进而造成感光芯片成像质量的下降。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种滤光片、其制备方法与具有其的成像设备,以解决现有技术中的感光芯片的成像质量较低的问题。
为了实现上述目的,根据本发明的一个方面,提供了一种滤光片,该滤光片包括透明基材层与第一折射率匹配单元,其中,第一折射率匹配单元设置在上述透明基材层的至少一个表面上,上述第一折射率匹配单元包括吸收物质,上述吸收物质的最大吸收波长在500~800nm之间。
进一步地,上述第一折射率匹配单元包括m个非吸收层与包括上述吸收物质的n个吸收层,上述非吸收层与上述吸收层堆叠设置,或者多个上述吸收层堆叠设置,上述第一折射率匹配单元至少包括折射率不同且接触设置的一个上述非吸收层与一个上述吸收层,或者上述第一折射率匹配单元至少包括折射率不同且接触设置的两个上述吸收层,其中,上述m与上述n均为整数,m≥0,n≥1,且m=0时,n≠1。
进一步地,上述吸收物质为无机染色材料或有机染色材料;优选上述无机染色材料为钴蓝、磷酸铜和/或孔雀石;优选上述有机染色材料为卟啉金属螯合物、萘酞菁金属螯合物、酞菁金属螯合物、喹啉金属螯合物与各自的衍生物的金属螯合物中的一种或多种;进一步优选上述有机染色材料为卟啉铜、萘酞菁铝、酞菁钴、8-羟基喹啉铝、四苯基卟啉镉、四羧甲基酞菁铜与8-羟基喹啉铝中的一种或多种。
进一步地,上述非吸收层的材料为ZnS、TiO2、Nb2O5、Ta2O5和/或ZnO、冰晶石、SiO2和/或MgF2;上述吸收层的材料的折射率在1.38~1.8之间;优选上述吸收层的厚度在2~100nm之间。
进一步地,上述滤光片还包括第二折射率匹配单元,上述第二折射率匹配单元设置在上述透明基材层上,上述第二折射率匹配单元包括依次层叠的p个非吸收层,且上述第二折射率匹配单元至少包括两个折射率不相同的接触设置的上述非吸收层,其中,上述p为整数,p≥2。
进一步地,上述第二折射率匹配单元包括交替设置的第一非吸收层与第二非吸收层,优选上述第一非吸收层的材料为ZnS、TiO2、Nb2O5、Ta2O5和/或ZnO,上述第二非吸收层的材料为冰晶石、SiO2和/或MgF2;优选上述第一非吸收层的折射率n1≥1.9;上述第二非吸收层的折射率n2≤1.6;优选上述第一非吸收层的厚度与上述第二非吸收层的厚度均在10~500nm之间。
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