[发明专利]显示装置及其反射式显示面板在审
| 申请号: | 201510943289.5 | 申请日: | 2015-12-16 |
| 公开(公告)号: | CN105572951A | 公开(公告)日: | 2016-05-11 |
| 发明(设计)人: | 谢畅 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02B5/02;G02B5/30 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 袁江龙 |
| 地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示装置 及其 反射 显示 面板 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种显示装置及其反射式显示 面板。
背景技术
如图1所示,液晶显示器面板一般由彩膜基板(CF基板)10和阵 列基板(TFT基板)20对盒形成,两个基板之间的空间中封装有液晶层 (LC)。
由于液晶分子自身不发光,所以显示面板需要光源以便显示图像, 根据采用光源类型的不同,液晶显示器可分为透射式、反射式和透反式。
反射式液晶显示面板主要是以前置光源或者外界光源作为光源,其 阵列基板采用金属或者其他具有良好反射特性材料的反射电极作为反 射区,适于将前置光源或者外界光源的光线反射;反射式液晶显示面板 的优点是能利用外部光源,功耗相对较低。
在现有技术的反射式液晶显示器中,为了使观看者能在各个视角都 能观看到均匀的反射效果,反射层30需要设计为漫反射的反射方式, 所以现有技术的反射层设计为凹凸表面的微结构,来实现漫反射。
其具体的制作方法为:先在反射区制作一层树脂层基底,再使用光 罩(Mask)进行曝光、显影、刻蚀等阵列制程在树脂层基底上形成凹凸 表面的微结构,该工序需要增加一道光罩,然后在凹凸表面的微结构上, 溅射金属层(银或铝)作为反射层30。
因此,现有技术制作凹凸表面微结构的反射层30工艺,需要增加 额外的光罩费用,增加了制造成本;并且,在实际生产中,凹凸表面的 微结构由于制造的精度限制,容易产生形态上的缺陷,影响漫反射的效 果。故需要一种新的方法解决以上问题。
发明内容
本发明提供一种显示装置及其反射式显示面板,以解决现有技术中 需要使用光罩在树脂层基底上形成凹凸表面的微结构导致成本高、效果 不好的问题。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种反 射式显示面板,包括:
上基板单元;
下基板单元,与所述上基板单元相对设置;
液晶层,设于所述上基板单元和所述下基板单元之间;
镜面反射层,设于所述下基板单元内侧;
彩膜偏光片单元,设于所述上基板单元外侧;
其中,外界光线通过所述镜面反射层反射并通过所述彩膜偏光片单 元产生漫反射效果。
根据本发明一优选实施例,所述镜面反射层为金属层。
根据本发明一优选实施例,所述镜面反射层同时作为像素电极使 用。
根据本发明一优选实施例,所述彩膜偏光片单元包括偏光片基底和 散射层,所述散射层中加入有散射粒子。
根据本发明一优选实施例,所述金属层为铝或银。
为解决上述技术问题,本发明采用的另一个技术方案是:提供一种 显示装置,该显示装置包括背框模组和反射式显示面板,所述背框模组 用于安装所述反射式显示面板,所述反射式显示面板包括:
上基板单元;
下基板单元,与所述上基板单元相对设置;
液晶层,设于所述上基板单元和所述下基板单元之间;
镜面反射层,设于所述下基板单元内侧;
彩膜偏光片单元,设于所述上基板单元外侧;
其中,外界光线通过所述镜面反射层反射并通过所述彩膜偏光片单 元产生漫反射效果。
本发明的有益效果是:区别于现有技术的情况,本发明提供的反射 式显示面板无需使用光罩形成凹凸表面的微结构,而是通过下基板单元 内侧的镜面反射层和上基板单元外侧的彩膜偏光片单元的共同作用,对 光线产生漫反射效果,保证观看者能在各个视角都能观看到均匀的反射 效果。该方法相对于现有技术,节省了光罩费用,简化了制作工艺,避 免了缺陷的发生,提升了反射显示的效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描 述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图 仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出 创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图,其中:
图1是现有技术中一种反射式显示面板的简化结构示意图;
图2是本发明优选实施例的反射式显示面板的简化结构示意图;
图3是图2中所示的彩膜偏光片单元的简化结构示意图;
图4是本发明优选实施例的显示装置的简化结构示意图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510943289.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





