[发明专利]缓释型光催化防污自洁涂层及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510943004.8 申请日: 2015-12-16
公开(公告)号: CN105504893A 公开(公告)日: 2016-04-20
发明(设计)人: 熊吉如;袁慧雯;王猛 申请(专利权)人: 南京倍立达新材料系统工程股份有限公司
主分类号: C09D1/00 分类号: C09D1/00;C09D7/12;C09D5/16
代理公司: 江苏圣典律师事务所 32237 代理人: 邓丽
地址: 210012 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 缓释型 光催化 防污 涂层 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种外墙用自洁涂层,适用于建筑屋面、建筑幕墙、墙面装饰等领域。

背景技术

随着城市环境污染的加剧,装饰幕墙板的污染也越来越严重。为了修复幕墙板的 装饰特性,清洗幕墙的成本也不断增加。因此具有自洁功能的装饰幕墙是未来建筑材料发 展的趋势。建筑外墙的自洁涂层通常是通过超亲水和超疏水两种方式来实现的,其中超亲 水材料最典型的是二氧化钛(TiO2)涂层,TiO2在紫外光辐照下能够产生电子-空穴对,氧化 还原反应后生成的氢氧自由基活性高,可分解有机污染物,实现自清洁;同时一定光照后, TiO2能够转化成超双亲表面,有利于雨水污染物的冲刷。让污染物和TiO2表面同时为了保证 装饰幕墙板的本身材料的长期耐久性,表面防护材料也是必不可少的。

有机半导体C3N4光催化性能的开发给光催化材料的研究注入了新的活力。C3N4是 一种聚合物半导体,带系约为2.7eV,可以吸收可见光,只含有C,N两种元素,硬度高、耐磨、 具有化学和热力学稳定性,价格便宜,制备简单,因此它高度满足对可见光光催化材料要 求。目前市面上的大部分光催化剂虽然短时间内都有非常明显的效果,但是经过外部恶劣 环境的腐蚀和破坏后,会逐渐从墙体表面脱落,光催化效果开始衰退。为了进一步提高外墙 用光催化剂的耐久性,有研究者将光催化剂负载在具有特殊结构的材料上,不仅能够提高 光催化剂与光照的接触面,同时也能抵挡外部污染物的侵蚀,但是光催化剂与负载材料的 结合力并不是非常好,经过一段时间后,光催化剂仍然会受到破坏。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术中存在的问题,提供一种缓释型光催化防污自洁 涂层,通过高分子树脂复合光催化剂与多孔材料高效结合,并且通过无机粘结剂提高涂层 材料在基材上的粘结强度,提供了光催化性能稳定、耐久性更好的涂层材料,制备方法简 单,性能优异。

具体来说是将高分子树脂与光催化剂搅拌混合后,与多孔材料球磨混合,让高分 子树脂复合光催化剂镶嵌于多孔材料上,同时再与粘结性较好的无机粘结剂结合,光催化 剂在高分子树脂的包裹下,逐渐发挥光催化效果,有效提高了光催化涂层的耐久性,降低外 墙清洁成本。

所述缓释型光催化防污自洁涂层,以质量份计,包括以下组分,各组分质量总和为 100%:

(1)高分子树脂复合光催化剂15~25%;

(2)多孔材料60~70%;

(3)无机粘结层5~15%;

其中高分子树脂复合光催化剂由5~15%光催化剂、1~5%高分子树脂和80~94%水组 成,各组分的质量总和为100%;无机粘结层由60~80%无机粘结剂和20~40%纳米颗粒组成, 各组分的质量总和为100%。

所述光催化剂为纳米TiO2和/或g-C3N4

所述高分子树脂选用但不限于环氧树脂、聚氨酯树脂、丙烯酸树脂、聚甲基苯基有 机硅树脂、甲基聚硅氧烷树脂中的一种。

所述多孔材料选用云母、气凝胶颗粒和多孔玻璃中的一种或多种。

所述无机粘结层包括无机粘结剂和纳米材料,其中无机粘结剂选用磷酸盐或硅酸 盐中的一种,纳米颗粒选用纳米SiO2、纳米ZrO2或纳米CaCO3中的一种或多种。

所述的缓释型光催化防污自洁涂层通过以下步骤制备得到:

1)将基材表面杂质清除后,鼓风干燥或自然晾干0.5~8h,保证基材表面的洁净和干燥;

2)将光催化剂、高分子树脂和水混合搅拌制备成高分子树脂复合光催化剂;

3)将步骤2)制备的高分子树脂复合光催化剂与多孔材料球磨混合30~60min,转速为 100~300r/min,制备得到多孔材料负载型复合光催化剂;

4)将无机粘结剂和纳米颗粒混合搅拌制备成无机粘结层;

5)将步骤3)制备的多孔材料负载型复合光催化剂配料与步骤4)制备的无机粘结层均 匀混合,喷射于基材上,喷涂完成后干燥10~60min,制成缓释型光催化防污自洁涂层。

本发明的有益效果在于:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京倍立达新材料系统工程股份有限公司,未经南京倍立达新材料系统工程股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510943004.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top