[发明专利]叠层片式电感的退镀处理方法在审
| 申请号: | 201510933964.6 | 申请日: | 2015-12-15 |
| 公开(公告)号: | CN105355410A | 公开(公告)日: | 2016-02-24 |
| 发明(设计)人: | 朱圆圆;梁启新;胡璐乐;马龙;齐治;南学亮;张亚平 | 申请(专利权)人: | 深圳市麦捷微电子科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H01F41/00 | 分类号: | H01F41/00;H01F41/04;H01F27/29 |
| 代理公司: | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人: | 刘海军 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市龙华新区观澜*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 叠层片式 电感 处理 方法 | ||
1.一种叠层片式电感的退镀处理方法,其特征是:所述的方法包括下述步骤:
(1)、电感表面退镀,将电感器端电极的锡层、镍层和银层退掉;
(2)、返烧,采用烧结炉对退镀处理后产品进行返烧;
(3)、磨边清洗,对返烧后的产品进行磨边清洗,去除表面杂质;
(4)、回炉,对磨边清洗后的产品进行回炉,将产品内部的水汽排出;
(5)、后续处理。
2.根据权利要求1所述的叠层片式电感的退镀处理方法,其特征是:所述的步骤(2)中返烧时的返烧曲线为:
其中:Tmax=900±10℃。
3.根据权利要求1所述的叠层片式电感的退镀处理方法,其特征是:所述的步骤(3)中磨边时采用行星球磨机,转速设置为120r/min,在水中加入2%除油剂,进行球磨30min。
4.根据权利要求1所述的叠层片式电感的退镀处理方法,其特征是:所述的步骤(4)中回炉时的回炉曲线为:
其中:Tmax=560±10℃。
5.根据权利要求1所述的叠层片式电感的退镀处理方法,其特征是:所述的步骤(5)中后续处理时包括端电极处理、表面处理、测试和包装。
6.根据权利要求1所述的叠层片式电感退镀处理后的工艺研究,其特征在于:所述的叠层片式电感为铁氧体电感。
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