[发明专利]利用激光纳米焊接增强单壁碳纳米管薄膜场发射性能方法

权利要求书

1.一种利用激光纳米焊接增强单壁碳纳米管薄膜场发射性能方法，其特征在于该方法包括以下步骤：

1）对金属基底表面的预处理，将金属基底放入无水乙醇或丙酮溶液，在超声池中进行超声洗清；

2）在步骤1）处理好的金属基底表面以沉积方法沉积单壁碳纳米管薄膜；

3）对步骤2）的金属基底表面沉积单壁碳纳米管薄膜施加激光纳米焊接，在激光能量与冲击波的共同作用下，单壁碳纳米管薄膜被压入熔融的金属基底表层，随着激光扫描后熔融金属的快速冷却，单壁碳纳米管薄膜嵌入金属基底表面与金属基底的稳固连接，得到场发射性能增强的单壁碳纳米管薄膜。

2.根据权利要求1所述利用激光纳米焊接增强单壁碳纳米管薄膜场发射性能方法，其特征在于所述金属基底为Al，Ni，Ti或Cu中的任意一种。

3.根据权利要求1所述利用激光纳米焊接增强单壁碳纳米管薄膜场发射性能方法，其特征在于所述超声的时间为10～15min。

4.根据权利要求1所述利用激光纳米焊接增强单壁碳纳米管薄膜场发射性能方法，其特征在于所述沉积的方法为电泳沉积法或旋转涂覆法。

5.根据权利要求1所述利用激光纳米焊接增强单壁碳纳米管薄膜场发射性能方法，其特征在于所述激光纳米焊接为：使用皮秒脉冲CO₂激光器，激光的光束直径为8μm，激光的波长为1064nm，激光的重复频率为100kHz，激光的功率为50～115mW，激光的扫描速度为20～200mm/min，负离焦为0.03～0.08mm，光斑重叠率为30～50%。