[发明专利]防静电吸附的聚酰亚胺薄膜及其制备方法

权利要求书

1.防静电吸附的聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于：取亲水性颗粒均匀分散于极性非质子溶剂中，然后加入芳香族二胺和四羧酸二酐反应制得聚酰胺酸树脂溶液，所得聚酰胺酸树脂溶液按常规工艺铺膜、热酰亚胺化，得到防静电吸附的聚酰亚胺薄膜；其中，所述的亲水性颗粒为氧化硅和/或氧化钛，亲水性颗粒的加入量为聚酰胺酸树脂溶液固含量的0.1～3w/w％。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：在所得聚酰胺酸树脂溶液中加入磷酸三苯酯和/或亚磷酸三苯酯，搅拌反应后再进行下一步操作。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述磷酸三苯酯和/或亚磷酸三苯酯的加入量为聚酰胺酸树脂溶液固含量的0.5～2w/w％。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的制备方法，其特征在于：亲水性颗粒的加入量为聚酰胺酸树脂溶液固含量的0.5～2w/w％。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的制备方法，其特征在于：所述的芳香族二胺为选自4,4’,-二氨基二苯醚、3,4’,-二氨基二苯醚、3,3’,-二氨基二苯醚、1,4-二氨基苯、1,3-二氨基苯、1,2-二氨基苯、4,4’-二氨基联苯、3,3’-二甲基-4,4’-二氨基联二苯、2,2’-二甲基-4,4’-二氨基联二苯中的一种或任意两种以上的组合。

6.根据权利要求1～3中任一项所述的制备方法，其特征在于：所述的四羧酸二酐为选自均苯四酸二酐、3,3’,4,4’-联苯四羧酸二酐、2,3,3’,4’-联苯四羧酸二酐、3,3’,4,4’-二苯醚四羧酸二酐、2,3,3’,4’-二苯醚四羧酸二酐、3,3’,4,4’-二苯甲酮四酸二酐和2,3,3’,4’-二苯甲酮四羧酸二酐中的一种或任意两种以上的组合。

7.根据权利要求1～3中任一项所述的制备方法，其特征在于：所述的极性非质子溶剂为选自N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二乙基乙酰胺和N,N-二乙基甲酰胺中的一种或任意两种以上的的组合。

8.权利要求1～7中任一项所述方法制备得到的防静电吸附的聚酰亚胺薄膜。