[发明专利]用于反应室内旋转石墨盘精确定位系统有效
| 申请号： | 201510912856.0 | 申请日： | 2015-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN105470186B | 公开（公告）日： | 2019-02-15 |
| 发明（设计）人： | 罗超;毛朝斌;林伯奇;陈特超 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | H01L21/68 | 分类号： | H01L21/68 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 周长清 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 反应 室内 旋转 石墨 精确 定位 系统 | ||
1.一种用于反应室内旋转石墨盘精确定位系统，其特征在于，包括驱动件（1）、石墨盘（4）、激光测距仪（6）和PLC控制器，所述驱动件（1）用于带动石墨盘（4）旋转及停止定位，所述石墨盘（4）上设置有用来放置晶圆片的凹槽（9），在所述石墨盘（4）的边缘开了一个缺口（8）；所述激光测距仪（6）用来测量出到石墨盘（4）边缘及缺口（8）的距离并传送给PLC控制器，由PLC控制器作出判断并控制驱动件（1）的启停，所述石墨盘（4）处于一个反应腔室（5）中，所述反应腔室（5）的顶面上开设有石英观察窗（7），所述激光测距仪（6）通过石英观察窗（7）来进行检测。
2.根据权利要求1所述的用于反应室内旋转石墨盘精确定位系统，其特征在于，所述驱动件（1）与一谐波减速机（2）相连。
3.根据权利要求1所述的用于反应室内旋转石墨盘精确定位系统，其特征在于，所述驱动件（1）采用步进电机和步进电机驱动器的组合。
4.根据权利要求1所述的用于反应室内旋转石墨盘精确定位系统，其特征在于，所述驱动件（1）通过支撑旋转轴（3）与石墨盘（4）相连。
5.根据权利要求1～4中任意一项所述的用于反应室内旋转石墨盘精确定位系统，其特征在于，所述缺口（8）为U型缺口。
6.根据权利要求1所述的用于反应室内旋转石墨盘精确定位系统，其特征在于，所述反应腔室（5）的侧面上设有门缝挡板（10）。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
