[发明专利]一种单铝靶磁控溅射太阳能选择性吸收涂层

权利要求书

1.一种单铝靶磁控溅射太阳能选择性吸收涂层，其特征是：太阳能选择性吸收涂层以 沉积在衬底上的铝反射膜作为底层，以沉积在铝反射膜上的铝元素陶瓷为扩散阻挡膜层， 以沉积在铝元素陶瓷扩散阻挡膜层上的铝元素金属陶瓷复合成分为太阳能选择性吸收材 料膜层，以沉积在铝元素金属陶瓷复合成分太阳能选择性吸收材料膜层上的铝元素陶瓷减 反射膜作为表层，太阳能选择性吸收涂层通过单铝靶磁控溅射真空镀膜机结合反应气体和 工作气体实现镀膜。

2.根据权利要求1所述的单铝靶磁控溅射太阳能选择性吸收涂层，其特征是：衬底为玻 璃管，在单铝靶磁控溅射真空镀膜机内纯氩气中非反应磁控溅射蒸镀铝反射膜在玻璃管 上，之后注入氧气，氧气与磁控溅射的铝原子反应，在铝反射膜上生成Al₂O₃陶瓷薄膜，作为 扩散阻挡膜层，之后注入氩气与氮气，或氩气与氮气、一氧化碳混合气体，或氩气与氮气、甲 烷混合气体，或氩气与氮气、乙炔混合气体，铝原子数对氮（或碳、氧）的比值亦增加，相应沉 积的吸收材料厚度增加，之后随着氮气的流量逐渐增加，氮对铝原子数的比值亦增加，相应 沉积的吸收材料厚度增加，形成铝元素金属陶瓷复合成分太阳能选择性吸收材料膜层，吸 收材料膜层的成分是渐变的，吸收材料铝—氧—氮（或铝—碳—氧—氮），最后注入氩气与 四氟化碳混合气体，形成在铝元素金属陶瓷复合成分太阳能选择性吸收材料膜层表面上， 生成铝—氮—氟（或铝—氧—氟）减反射膜作为表层。

3.根据权利要求1所述的单铝靶磁控溅射太阳能选择性吸收涂层，其特征是：衬底为玻 璃管，在单铝靶磁控溅射真空镀膜机内纯氩气中非反应磁控溅射蒸镀铝反射膜在玻璃管 上，之后注入氮气，氮气与磁控溅射的铝原子反应，在铝反射膜上生成AlN陶瓷薄膜，作为扩 散阻挡膜层，之后注入氩气与氮气，或氩气与氮气、一氧化碳混合气体，或氩气与氮气、甲烷 混合气体，或氩气与氮气、乙炔混合气体，混合气体中氮气的份额减少，铝原子数对氮的比 值亦增加，相应沉积的吸收材料厚度增加，之后注入氩气与氮气混合气体中的氮气份额增 加，氮对铝原子数的比值亦增加，相应沉积的吸收材料厚度增加，形成铝元素金属陶瓷复合 成分太阳能选择性吸收材料膜层，吸收材料膜层的成分是渐变的，吸收材料铝—氮（或铝— 碳—氮）最后注入氩气与四氟化碳混合气体，形成在铝元素金属陶瓷复合成分太阳能选择 性吸收材料膜层表面上，生成铝—氮—氟减反射膜作为表层。

4.根据权利要求1所述的单铝靶磁控溅射太阳能选择性吸收涂层，其特征是：衬底为 玻璃管，在单铝靶磁控溅射真空镀膜机内纯氩气中非反应磁控溅射蒸镀铝反射膜在玻璃管 上，之后注入氧气，氧气与磁控溅射的铝原子反应，在铝反射膜上生成Al₂O₃陶瓷薄膜，作为 扩散阻挡膜层，之后注入氩气与氮气，或氩气与氮气、一氧化碳混合气体，或氩气与氮气、甲 烷混合气体，或氩气与氮气、乙炔混合气体，铝原子数对氮的比值亦增加，相应沉积的吸收 材料厚度增加，随着氮气的流量逐渐增加，氮对铝原子数的比值亦增加，相应沉积的吸收材 料厚度增加，形成铝元素金属陶瓷复合成分太阳能选择性吸收材料膜层，吸收材料膜层的 成分是渐变的，吸收材料铝—氧—氮（或铝—碳—氧—氮），最后注入氩气与氧气混合气体， 氧气与磁控溅射的铝原子反应，形成在铝元素金属陶瓷复合成分太阳能选择性吸收材料膜 层表面上，生成Al₂O₃陶瓷减反射膜表层。

5.根据权利要求1所述的单铝靶磁控溅射太阳能选择性吸收涂层，其特征是：衬底为玻 璃管，在单铝靶磁控溅射真空镀膜机内纯氩气中非反应磁控溅射蒸镀铝反射膜在玻璃管 上，之后注入氮气，氮气与磁控溅射的铝原子反应，在铝反射膜上生成AlN陶瓷薄膜，作为扩 散阻挡膜层，之后注入氩气与氮气，或氩气与氮气、一氧化碳混合气体，或氩气与氮气、甲烷 混合气体，或氩气与氮气、乙炔混合气体，混合气体中氮气的份额减少，铝原子数对氮的比 值亦增加，相应沉积的吸收材料厚度增加，之后注入的氩气与氮气混合气体中的氮气份额 增加，氮对铝原子数的比值亦增加，相应沉积的吸收材料厚度增加，形成铝元素金属陶瓷复 合成分太阳能选择性吸收材料膜层，吸收材料膜层的成分是渐变的，吸收材料铝—氮（或 铝—碳—氮），最后注入氩气与氮气混合气体，氮气与磁控溅射的铝原子反应，在铝元素金 属陶瓷复合成分太阳能选择性吸收材料膜层表面上，生成AlN陶瓷薄膜减反射膜表层。