[发明专利]一种鞋底粘接前处理方法在审
| 申请号: | 201510888814.8 | 申请日: | 2015-12-04 |
| 公开(公告)号: | CN105520276A | 公开(公告)日: | 2016-04-27 |
| 发明(设计)人: | 刘洪生 | 申请(专利权)人: | 刘洪生 |
| 主分类号: | A43D8/00 | 分类号: | A43D8/00;A43D117/00 |
| 代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 张海文 |
| 地址: | 528400 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 鞋底 粘接前 处理 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种鞋底粘接前处理方法。
背景技术
目前,制鞋行业中的鞋底所用的材料有橡胶、EVA和人造革、皮革等材料,其表面为惰性材料,在上胶粘接前,都需要将大底和中底用处理剂进行表面处理,才能达到一定的接合强度,通常采用化学腐蚀法和化学接枝法对其进行表面处理。
用橡胶材料作为鞋底的鞋子,现有技术中的粘接方法是:对橡胶鞋底用依次用碱性液体进行清洗,用酸性液体中和清洗,用清水漂洗,接着烘干橡胶鞋底,人工涂刷橡胶处理剂进行化学腐蚀,再烘干,最后进行上胶粘接。该橡胶处理剂主要成分为添加有机溶剂的合成树脂。
用EVA材料作为鞋底的鞋子,现有技术中的粘接方法是:对EVA鞋底依次用碱性液体进行清洗,用酸性液体中和清洗,用清水漂洗,接着烘干EVA鞋底,人工涂刷EVA处理剂,以腐蚀EVA鞋底产生粗糙粘接面。该EVA处理剂主要成分为丁酮、环己酮和碳酸甲基脂的混合物。
采用上述粘接方法有以下缺点:
第一,排放大量的VOC和工业废水;
第二,工序繁杂,需要工人在鞋底表面涂覆试剂,人工成本高;
第三,耗能大、占用厂房空间多,致使生产成本高;
第四,VOC排放高,毒性强,严重影响现场工人的身体健康。
发明内容
为了解决上述问题,本发明的目的在于提供一种节能环保,能有效降低生产成本,减少对工人身体健康的伤害的鞋底粘接前处理方法。
本发明为解决其技术问题而采用的技术方案是:
一种鞋底粘接前处理方法,包括利用波长为185nm的短波紫外光照射鞋底的粘接面以在鞋底的粘接面上产生带极性的高分子化合物,同时利用该短波紫外光照射空气时产生的臭氧去除鞋底粘接面上的有机污物。
优选的,所述的波长为185nm的短波紫外光由UVC紫外线灯管产生。
优选的,所述的鞋底是在一隧道炉内接受所述短波紫外光照射的,隧道炉上开设有可供鞋底穿过的开口。
优选的,所述的隧道炉上设置有臭氧溶度检测器和排风装置,所述的臭氧溶度检测器用于检测隧道炉内的臭氧溶度,排风装置用于调节隧道炉内的臭氧溶度。
本发明的有益效果是:本发明中,波长为185nm的短波紫外光能够对鞋底粘接面上的高分子化合物进行断键,使鞋底的粘接面生成带极性的高分子化合物,达到物理打磨或化学腐蚀相同的技术效果,使得鞋底的粘接面能够和胶水有效链接,提高鞋底的粘接强度,另一方面,该波长的短波紫外光能够将空气中的氧气转化为臭氧,臭氧具有强氧化性,能够有效氧化鞋底粘接面上的小分子有机化合污染物,达到清洗效果,使得鞋底和胶水能够充分连接,能有效保证鞋底的粘接质量。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
图1是本发明的的应用示意图。
具体实施方式
参照图1,一种鞋底粘接前处理方法,包括利用波长为185nm的短波紫外光照射鞋底的粘接面以在鞋底的粘接面上产生带极性的高分子化合物,同时利用该短波紫外光照射空气时产生的臭氧去除鞋底粘接面上的有机污物。本发明中,波长为185nm的短波紫外光能够对鞋底粘接面上的高分子化合物进行断键,使鞋底的粘接面生成带极性的高分子化合物,达到物理打磨或化学腐蚀相同的技术效果,使得鞋底的粘接面能够和胶水有效链接,提高鞋底的粘接强度,另一方面,该波长的短波紫外光能够将空气中的氧气转化为臭氧,臭氧具有强氧化性,能够有效氧化鞋底粘接面上的小分子有机化合污染物,达到清洗效果,使得鞋底和胶水能够充分连接,能有效保证鞋底的粘接质量。
本实施例中,波长为185nm的短波紫外光由UVC紫外线灯管10产生,结构简单,易于安装和使用。鞋底是在一隧道炉20内接受短波紫外光照射的,隧道炉20上开设有可供鞋底穿过的开口,本实施例中利用输送带30输送鞋底,使鞋底依次通过各隧道炉20以接受短波紫外光的照射,生产效率较高,该隧道炉20可形成一相对密封的空间,能够减少臭氧的外泄,有利于提高臭氧的溶度以提高度鞋底粘接面的清洁效果。隧道炉20上设置有臭氧溶度检测器和排风装置,臭氧溶度检测器用于检测隧道炉20内的臭氧溶度,排风装置用于调节隧道炉20内的臭氧溶度,这样可以将隧道炉20内的臭氧溶度控制在一个适宜的范围,提高清洁效果,保证产品质量。
以上所述仅为本发明的优先实施方式,只要以基本相同手段实现本发明目的的技术方案都属于本发明的保护范围之内。
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