[发明专利]一种铍铜合金表面TiN/Ti复合渗层的制备方法在审
申请号: | 201510880654.2 | 申请日: | 2015-12-04 |
公开(公告)号: | CN105386001A | 公开(公告)日: | 2016-03-09 |
发明(设计)人: | 刘小萍;于盛旺;林乃明;王振霞;刘琳 | 申请(专利权)人: | 太原理工大学 |
主分类号: | C23C14/48 | 分类号: | C23C14/48;C23C14/16;C23C8/36 |
代理公司: | 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 | 代理人: | 申艳玲 |
地址: | 030024 山西*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 铜合金 表面 tin ti 复合 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种铍铜合金表面TiN/Ti复合渗层的制备方法,属于金属材料表面改性技术领域。
背景技术
铍铜合金由于其良好的导电、导热性、较高的弹性极限等优点,被广泛用于电子电器、航空航天、石油化工等多种领域,已经成为国民经济建设中不可缺少的重要工业材料。由于QBe1.9合金的硬度低、耐磨性差,对于用于摩擦环境的铍铜合金零件如齿轮、测试探针、弹片等,常会因其硬度低而磨损严重。热处理是目前提高QBe1.9合金力学性能的主要方法。然而受QBe1.9合金成分、结构等的限制,热处理后铍铜合金硬度提高幅度有限,对耐磨性的改善作用不明显。
TiN具有高硬度、低摩擦系数以及良好的耐磨性和耐腐蚀性,是制备硬质表层的较好的材料。就铍铜合金而言,由于其基体较软,难以支撑其上硬质TiN薄膜,加之TiN薄膜与基体间的结合力较弱,在铍铜合金表面直接制备硬质薄膜对耐磨性的改善作用微乎其微。
发明内容
本发明旨在克服在软基体表面直接制备硬质薄膜的局限,提供一种铍铜合金表面TiN/Ti复合渗层的制备方法,将等离子表面合金化技术与离子氮化技术相结合,在软质铍铜合金表面形成TiN/Ti复合渗层,所获得的复合渗层具有良好的耐磨性。
本发明提供的一种铍铜合金表面TiN/Ti复合渗层的制备方法,包括以下步骤:
(1)铍铜合金工件预处理:将铍铜合金工件表面经SiC水洗砂纸打磨→金刚石粉抛光→丙酮清洗,干燥后备用;
(2)将预处理后的铍铜合金工件置于等离子渗金属炉内的阴极垫板上,并在其周围加一辅助阴极,在辅助阴极上设有孔;纯钛板通过靶阴极架置于铍铜合金工件上方,纯钛板位于辅助阴极内,与铍铜合金工件间距15~25mm;
(3)将铍铜合金工件与工件电源连接,成为工件极,再将纯钛板通过靶阴极架与靶电源连接,成为源极;
(4)将等离子渗金属炉抽至极限真空,通入氩气,接通工件电源,产生气体放电,离子轰击铍铜合金工件10~20min,工作气压为20~50Pa;
(5)接通钛靶电源,在工件和源极两极间产生空心阴极效应,当温度增加至750~900℃时,保持工作气压30~50Pa,在工件和源极电压分别为300~500V和580~800V条件下,开始进行铍铜合金表面钛合金层的制备,渗钛时间0.5~3h;渗钛结束后断开工件和靶电源,控制氩气通量为160-180mL/min,维持氩气通入时间1.5~2.5h,使铍铜合金工件快速冷到室温;
(6)将渗钛后的铍铜合金工件置于常规离子氮化炉中,选择NH3为渗氮气体,气压为400~550Pa,渗氮温度为600~700℃,阴极电压为650~800V,阴极电流为25~28A,渗氮6~15h后,维持正常辉光放电冷却0.5~1h,断开电源,关闭气体,随炉冷却至室温;即得铍铜合金TiN/Ti复合渗层。
优选地,所述铍铜合金表面TiN/Ti复合渗层的制备方法,包括以下步骤:
(1)铍铜合金工件预处理:将铍铜合金工件表面经SiC水洗砂纸打磨→金刚石粉抛光→丙酮清洗,干燥后备用;
(2)将预处理后的铍铜合金工件置于等离子渗金属炉内的阴极垫板上,并在其周围加一辅助阴极,在辅助阴极上设有孔;纯钛板通过靶阴极架置于铍铜合金工件上方,纯钛板位于辅助阴极内,与铍铜合金工件间距18~22mm;
(3)将铍铜合金工件与工件电源连接,成为工件极,再将纯钛板通过靶阴极架与靶电源连接,成为源极;
(4)将等离子渗金属炉抽至极限真空,通入氩气,接通工件电源,产生气体放电,离子轰击铍铜合金工件15~18min,工作气压为30~40Pa;
(5)接通钛靶电源,在工件和源极两极间产生空心阴极效应,当温度增加至830~860℃时,保持工作气压33~38Pa,在工件和源极电压分别为350~400V和600~700V条件下,开始进行铍铜合金表面钛合金层的制备,渗钛时间为0.5~3h;渗钛结束后断开工件和靶电源,控制氩气通量为170-175mL/min,维持氩气通入时间1.5~1.8h,使铍铜合金工件快速冷到室温;
(6)将渗钛后的铍铜合金工件置于常规离子氮化炉中,选择NH3为渗氮气体,气压为480~500Pa,渗氮温度为630~660℃,阴极电压为680~730V,渗氮8~10h后,维持正常辉光放电冷却0.5~0.7h,断开电源,关闭气体,随炉冷却至室温;即得铍铜合金TiN/Ti复合渗层。
上述制备方法中,所述的等离子渗金属炉的结构如下:
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