[发明专利]一种超级电容器的盖板在审
申请号: | 201510880638.3 | 申请日: | 2015-12-05 |
公开(公告)号: | CN106847551A | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 谢志懋;王占东 | 申请(专利权)人: | 佛山市欣源电子股份有限公司 |
主分类号: | H01G11/80 | 分类号: | H01G11/80;H01G11/78 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 超级 电容器 盖板 | ||
技术领域
本发明涉及一种电子元件的改进技术,尤其涉及电容器的改进技术。
背景技术
目前超级电容器主要包括有电芯、正集流片、负集流片、上铝盖、铝壳、O型密封圈和绝缘圈组成,正负集流片与电芯采用激光焊接连接,负集流片直接插入铝盖内通过滚压与铝壳盖板连接,正集流片加一个隔离环和O型密封圈通过滚压的方式和盖板连接,盖板是内部能量与外部对接的窗口,起着能量传输与安全把关的最重要位置,因此开发功能性好的“盖板”就很重要了,盖板主要的技术就在于密封圈和隔离环,目前盖板密封所采用的是:
①PFA铆压极柱,采用可溶性聚四氟乙烯+全氟烷基树脂等有机材料,并且PFA、最多能耐100~260度的高温,当温度超过后,就软化失去作用,进一步加剧电池损坏的程度,引起更大的灾难。
②氟橡胶+陶瓷圈做密封的结构,氟橡胶是耐酸耐碱的有机材料,但是超过260℃就软化或炭化,而失效。
发明内容
本发明公开了一种超级电容器的盖板,不但结构件坚固、抗扭抗压性能强、气密性好,而且耐高温、低温性能强、绝缘值高。
本发明一种超级电容器的盖板,包括有电芯1、正负集流片2、上铝盖3、铝壳4和陶瓷绝缘圈5组成,其特征在于:所述的电芯1置于铝壳4的内部,电芯1的上下分别设有正负集流片2,铝壳4设有顶部设有上铝盖3,铝盖3的边沿设有凹槽31,凹槽31与铝壳4接触处设有陶瓷绝缘圈5,所述的陶瓷绝缘圈5由内陶瓷圈51和外铝圈52组成,内陶瓷圈51与凹槽31的外廓形状匹配,外铝圈52填平内陶瓷圈51与铝盖3之间的空隙,上铝盖3、外铝圈52与陶瓷圈51之间采用纤焊技术融合。
所述的一种超级电容器的盖板,其特征在于:所述的纤焊技术中所采用纤焊材料是采用以下材料配比组成:
铂25~60份、松香2~8份、石蜡5~18份、银30~56份、云母6~20份。
本发明陶瓷本身能耐800度的高温,因铝壳电池的铝的熔点为520~650度,故整体耐温在500多度,故可将电池此部份的寿命延长到10年以上。
本发明接受的各种极端环境测试,结果如下:
1、高低温测试:将结构件在110℃炉中加热10min以上,丢入0℃冰水混合物中,循环1000次,再进行10KG气压测试,仍不漏气。
2、扭力测试:将结构件固定在台虎钳上,用扭力扳手旋转,200个样品进行7.5N十次,15N一次测试,再进行10KG气压测试,全部不漏气。
3、最大扭力:将结构件固定在台虎钳上,用扭力扳手旋转,进行破坏性测试最大破坏力在25~30N.M。
4、震动测试:按照QTC743标准,震动频率:10~55Hz,最大加速度3G,扫频循环:10次,时间:2h。再进行10KG气压测试,全部不漏气。
5、常温下电阻测试:在室温25 ℃65%RH,采用1000V下,绝缘电阻均大于500MΩ。
6、在98%RH的高湿度条件中静置24小时后,测试绝缘电阻大于200MΩ。
上述实现证明本发明不但结构件坚固、抗扭抗压性能强、气密性好,而且耐高温、低温性能强、绝缘值高。
附图说明
图1是本发明的剖面图。
图2是本发明上铝盖部分的剖面图。
图1-2中符号说明:电芯1、正负集流片2、上铝盖3、凹槽31、铝壳4、陶瓷绝缘圈5、内陶瓷圈51、外铝圈52。
具体实施方式
如图1-2所示,一种超级电容器的盖板,包括有电芯1、正负集流片2、上铝盖3、铝壳4和陶瓷绝缘圈5组成,其特征在于:所述的电芯1置于铝壳4的内部,电芯1的上下分别设有正负集流片2,铝壳4设有顶部设有上铝盖3,铝盖3的边沿设有凹槽31,凹槽31与铝壳4接触处设有陶瓷绝缘圈5,所述的陶瓷绝缘圈5由内陶瓷圈51和外铝圈52组成,内陶瓷圈51与凹槽31的外廓形状匹配,外铝圈52填平内陶瓷圈51与铝盖3之间的空隙,上铝盖3、外铝圈52与陶瓷圈51之间采用纤焊技术融合。
所述的一种超级电容器的盖板,其特征在于:所述的纤焊技术中所采用纤焊材料是采用以下材料配比组成:
铂25份、松香5份、石蜡8份、银38份、云母12份。
本发明不但结构件坚固、抗扭抗压性能强、气密性好,而且耐高温、低温性能强、绝缘值高。
最后应说明的是:显然,上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例,而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引申出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之中。
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