[发明专利]触控面板及其制造方法

权利要求书

1.一种触控面板，包含：

一保护盖板，具有一内表面；

一遮蔽膜，镀制于该内表面之一周边区域，该周边区域为一非可视区，该遮蔽膜包含至少一镀膜层；

一感应电极层，至少部份设置于该内表面之该遮蔽膜上；以及

一走线层，设置于该非可视区并电性连接该感应电极层，且该遮蔽膜系位于该保护盖板与该走线层之间；

其中，该走线层至该保护盖板的距离小于2微米；

其中该遮蔽膜包含复数镀膜层以及复数耐化学层，该些镀膜层与该些耐化学层系交替层迭的。

2.如权利要求1所述之触控面板，其中该镀膜层之材料在光的波长于300至2000奈米的范围内，光吸收系数系介于1.5与20之间。

3.如权利要求1所述之触控面板，其中该镀膜层之材料包含氮氧化硅钛、硅、钛、铝、锌、锡、铬、铑、银、铋或其组合。

4.如权利要求1所述之触控面板，更包含一保护膜，该遮蔽膜系位于该保护盖板与该保护膜之间。

5.如权利要求4所述之触控面板，其中该保护膜接触该走线层，且该保护膜与该走线层绝缘。

6.如权利要求1所述之触控面板，更包含一抗反射多层膜，至少部份地位于该内表面之该非可视区上，并且位于该保护盖板与该遮蔽膜之间。

7.如权利要求6所述之触控面板，其中该抗反射多层膜包含一钛层，该钛层之厚度系介于1奈米与40奈米之间。

8.一种触控面板之制造方法，包含：

提供一保护盖板；

在该保护盖板之一内表面之一非可视区上，以物理气相沉积的方式镀制一遮蔽膜；

至少在该内表面之一可视区上，形成一感应电极层；以及

在该遮蔽膜之远离该内表面之一侧，形成电性连接该感应电极层之一走线层；

其中镀制该遮蔽膜包含：

以物理气相沉积的方式，交替地镀制复数镀膜层与复数耐化学层。

9.如权利要求8所述触控面板之制造方法，更包含：

在形成该走线层之前，以物理气相沉积的方式，镀制一保护膜于该遮蔽膜之远离该内表面之一侧。

10.如权利要求9所述触控面板之制造方法，其中形成该走线层包含：在该保护膜之远离该遮蔽膜之一侧，形成该走线层。

11.如权利要求8所述触控面板之制造方法，更包含：

在镀制该遮蔽膜之前，以物理气相沉积的方式，镀制一抗反射多层膜于该内表面之该非可视区上，其中该遮蔽膜系镀制于该抗反射多层膜之远离该内表面之一侧。