[发明专利]一种低温氯氧镁水泥及其制备方法在审
申请号: | 201510859860.5 | 申请日: | 2015-11-30 |
公开(公告)号: | CN105367036A | 公开(公告)日: | 2016-03-02 |
发明(设计)人: | 肖学英;文静;常成功;李颖;郑卫新;安生霞;董金美 | 申请(专利权)人: | 中国科学院青海盐湖研究所 |
主分类号: | C04B28/32 | 分类号: | C04B28/32 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰;侯艺 |
地址: | 810008*** | 国省代码: | 青海;63 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 低温 氯氧镁 水泥 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及水泥制备技术领域,尤其是氯氧镁水泥的改进技术。
背景技术
氯氧镁水泥是由法国科学家sorel于1867年发明的一种快硬、早强、高强 材料。由于它优异的力学性能,致使它的用途十分广泛。然而镁水泥的水化反 应时是一个放热反应过程,在水化过程中会产生大量的热量,这些热量能使水 泥浆体的温度在短时间内高于100℃,这样的高温会影响镁水泥水化产物的结构 体积稳定性。
发明内容
为克服现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种低温氯氧镁水泥的制 备方法,包括如下步骤:
将氧化镁、氯化镁和水按照物质的量比为3~9:1:11~20混合形成浆体;
向所述浆体中加入外加剂,形成泥浆,对所述泥浆养护3天以上获得所述 低温氯氧镁水泥;所述外加剂质量为所述氧化镁质量的0.5~2倍;其中,所述外 加剂选自:四硼酸钠、三(羟甲基)氨基甲烷,酒石酸、硼酸、硼酸胺、磷酸 二氢铵、乙酸钙、尿素、氯化锌、壳聚糖、苯甲酸、三氯化铝、硅酸钠中的一 种或多种。
进一步地,所述氧化镁、氯化镁、和水按照物质的量比为3~7:1:11~15。
本发明还提供这种低温氯氧镁水泥,包括物质的量比为3~9:1:11~20的氧化 镁、氯化镁和水;以及外加剂,所述外加剂质量为所述氧化镁质量的0.5~2倍; 其中,所述外加剂选自:四硼酸钠、三(羟甲基)氨基甲烷,酒石酸、硼酸、 硼酸胺、磷酸二氢铵、乙酸钙、尿素、氯化锌、壳聚糖、苯甲酸、三氯化铝、 硅酸钠中的一种或多种。
有益效果:
本发明通过在现有的氯氧镁水泥中添加外加剂,可以大大降低水泥水化过 程的放热温度,也延长了最高温度出现的时间,使得热量可以缓慢均匀地释放, 从而避免了泥浆温度过高,造成水泥制品开裂变形、影响强度的问题。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本发明作详细介绍。
本发明提供的一种低温氯氧镁水泥的制备方法,包括如下步骤:
步骤一:将氧化镁、氯化镁、和水按照物质的量比为3~9:1:11~20混合形成 浆体。其中所述氧化镁、氯化镁、和水的物质的量之比可简称为“水泥摩尔比”。 所述氧化镁、氯化镁、和水按照物质的量之比也可以优选更佳的为3~7:1:11~15。
其中,氧化镁是一种活性氧化镁,其可以有多种来源,例如轻烧粉、苛性 粉、盐湖副产品等,各种来源获得后将先行测试活性氧化镁的含量。
步骤二:向所述浆体中加入外加剂,形成泥浆。所述外加剂质量为所述氧 化镁质量的0.5~2倍;其中,所述外加剂选自:四硼酸钠、三(羟甲基)氨基甲 烷,酒石酸、硼酸、硼酸胺、磷酸二氢铵、乙酸钙、尿素、氯化锌、壳聚糖、 苯甲酸、三氯化铝、硅酸钠中的一种或多种。
步骤三:在20℃恒温水浴下养护3天,期间持续检测所述泥浆的温度以及 达到最高温度所需要的时间。其中,本发明在恒温水浴中养护是为了与对比例 保持相同的养护环境,以便进行性能对比,在其他实施例中,所述泥浆也可以 在室温或环境温度下养护完成。
对比例
将氧化镁、氯化镁、和水按照物质的量比为3~9:1:11~20混合形成浆体。然 后在20℃恒温水浴下养护3天,期间持续检测所述浆体的温度以及达到最高温 度所需要的时间。
下面,将结合各个实施例及对比例展示本发明的氯氧镁水泥特性,如表1 所示。
表1实施例1~16以及对比例1~3的水化反应参数以及水泥性能
(续上表)
从表1可知,添加了外加剂后的各个实施例,其水化过程的最高温度均比 对应的对比例要大大降低;添加了外加剂后的各个实施例达到最高温度所需时 间均比对应的对比例要大大延长。由此说明,本发明通过在现有的氯氧镁水泥 中添加外加剂,可以大大降低水泥水化过程的放热温度,也延长了最高温度出 现的时间,使得热量可以缓慢均匀地释放,从而避免了泥浆温度过高,造成水 泥制品开裂变形、影响强度的问题。
以上所述为本发明的具体实施方式,其目的是为了清楚说明本发明而作的 举例,并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说, 在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法 对所有的实施方式予以穷举。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、 等同替换和改进等,均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。
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