[发明专利]一种二氧化氯发生器的气体浓度控制系统及方法

权利要求书

1.一种二氧化氯发生器的气体浓度控制系统，其特征在于，该系统包括：二氧化氯发生装置、气体测量装置和PLC控制装置；

所述的二氧化氯发生装置用于产生二氧化氯气体；

所述的气体测量装置用于测量通入到所述的二氧化氯发生装置的外界气体量，并将外界气体量的测量值传递给所述的PLC控制装置；

所述的PLC控制装置用于根据待处理水量和二氧化氯投加量计算二氧化氯气体需求量，利用所述二氧化氯需求量和所述外界气体量的测量值计算出二氧化氯发生装置内二氧化氯气体浓度；

所述的PLC控制装置还用于比较所述二氧化氯气体浓度和第一预设值的大小，当所述二氧化氯气体浓度低于所述第一预设值时,控制设备正常运行,当所述二氧化氯气体浓度高于所述第一预设值时,控制设备停止运行。

2.如权利要求1所述的二氧化氯发生器的气体浓度控制系统，其特征在于，所述的二氧化氯发生装置还包括进气口和出气口，所述的气体测量装置安装在进气口处。

3.如权利要求1所述的二氧化氯发生器的气体浓度控制系统，其特征在于，所述的PLC控制装置还用于比较所述二氧化氯气体浓度是否低于第二预设值，当所述二氧化氯气体浓度低于所述第二预设值时，控制设备停止运行。

4.如权利要求1所述的二氧化氯发生器的气体浓度控制系统，其特征在于，所述的外界气体的种类包括空气或惰性气体。

5.如权利要求1-4之一所述的二氧化氯发生器的气体浓度控制系统，其特征在于，所述的PLC控制装置还包括报警装置，用于当设备停止运行时，提示操作人员。

6.一种二氧化氯发生器的气体浓度控制系统，其特征在于，该系统包括：二氧化氯发生装置、气体测量装置和PLC控制装置；

所述的二氧化氯发生装置用于产生二氧化氯气体；

所述的气体测量装置用于测量通入到所述的二氧化氯发生装置的外界气体量,并将外界气体量的测量值传递给所述的PLC控制装置；

所述的PLC控制装置用于根据待处理水量和二氧化氯投加量计算二氧化氯气体需求量，并根据所述二氧化氯气体需求量和第一预设值,计算出所需外界气体量的理论值；

所述的PLC控制装置还用于比较所述外界气体的理论值和所述外界气体量的测量值大小，当所述外界气体量的理论值高于所述外界气体量的测量值，控制设备停止运行，当所述外界气体量的理论值低于所述外界气体量的测量值，控制设备正常运行。

7.一种利用权利要求1所述的二氧化氯发生器的气体浓度控制系统的控制方法，其特征在于，所述的方法包括如下步骤：

(1)根据二氧化氯的投加量，结合待处理水量计算二氧化氯气体需求量；

(2)测量通入的外界气体量，获得外界气体的测量值；

(3)利用所述二氧化氯气体需求量与所述外界气体的测量值，计算二氧化氯气体浓度；

(4)判断二氧化氯气体浓度是否低于第一预设值，若所述二氧化氯浓度低于第一预设值，设备正常运行；否则,设备停止运行。

8.一种利用权利要求6所述的二氧化氯发生器的气体浓度控制系统的控制方法，其特征在于，所述的方法包括如下步骤：

(1)根据二氧化氯的投加量，结合待处理水量计算二氧化氯气体需求量；

(2)测量通入的外界气体量，获得外界气体的测量值；

(3)利用二氧化氯气体需求量与所述第一预设值,计算出所需外界气体的理论值；

(4)判断所述外界气体的理论值是否低于所述外界气体的测量值，若所述外界气体的理论值低于所述外界气体测量值，设备正常运行；否则,设备停止运行。