[发明专利]一种地下排污管道的地面清扫口在审

专利信息
申请号: 201510828568.7 申请日: 2015-11-25
公开(公告)号: CN105421567A 公开(公告)日: 2016-03-23
发明(设计)人: 李海珠;焦迪;王东海;白玮;张荣勇;梁鹏;王莉;王芳 申请(专利权)人: 中国核电工程有限公司
主分类号: E03F3/04 分类号: E03F3/04
代理公司: 北京天悦专利代理事务所(普通合伙) 11311 代理人: 田明;任晓航
地址: 100840 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 地下 排污 管道 地面 清扫
【说明书】:

技术领域

发明属于核化工设施设计技术领域,具体涉及一种地下排污管道的地面清扫口。

背景技术

《建筑给水排水设计规范》GB50015-2003(2009年版)第4.5.13条对排水管道上设置清扫口做出了相关规定,核化工厂房内存在重力流排放的放射性废水排水系统,同样需要在管道上设置清扫口,以便对管路进行疏通清扫,防止管道堵塞。

图2是现有的地下排污管道道的地面清扫口的示意图,所述地面清扫口包括管状本体1,管状本体1底部伸入地面0以下与排污管道5相接,管状本体1的顶部设有盖板3。

但是,由于核化工厂房重力流放射性废水排水系统所输送的介质为放射性废水,并且需要在放射性环境内长期使用,而上述图2所示的被广泛使用的地面清扫口通常采用铸铁或铜材质,不能满足核化工的使用要求;另外,上述地面清扫口的结构相对复杂,若应用在核化工厂房的放射性废水排水管道上,疏通清扫后对清扫口的擦拭清洗需要使用更多的清洗水,也就会产生更多的放射性废水,因此,上述地面清扫口仅适合在非放射性排水管道上使用。

发明内容

针对现有技术中存在的缺陷,本发明的目的是提供一种地下排污管道的地面清扫口,其结构简单,便于安装、使用和维护。

为达到以上目的,本发明采用的技术方案是:一种地下排污管道的地面清扫口,所述清扫口包括伸入地面以下与排污管道相连的管状本体以及盖在管状本体开口处的盖板,管状本体的开口端伸出地面以上,管状本体的开口端连接有凸面法兰,盖板设在管状本体的凸面法兰上并与凸面法兰相连。

进一步,所述盖板为凸面管法兰盖。

进一步,为防止地面积水进入清扫口并方便维护,凸面法兰的底面距离地面的距离A为50~100mm。

再进一步,管状本体为不锈钢管状本体,凸面法兰为不锈钢凸面法兰,盖板为不锈钢盖板。

本发明提供的用于清扫排污管道的清扫口,其结构简单,易于安装和维护,能有效解决核化工厂房放射性废水排水管道的疏通清扫问题,可广泛应用在核化工厂等核设施的室内放射性废水排水管道上。

附图说明

图1是本发明提供的一种地下排污管道的地面清扫口的结构示意图;

图2是本发明提供的地面清扫口的一种实施例的结构示意图;

图3是现有的地下排污管道的地面清扫口的示意。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步描述。

如图1所示,本发明所提供的一种地下排污管道的地面清扫口,所述清扫口包括伸入地面0以下与排污管道5相连的管状本体1以及盖在管状本体1开口处的盖板3,管状本体1的开口端伸出地面0以上,管状本体1的开口端连接有凸面法兰2,盖板3设在管状本体1的凸面法兰2上并通过螺栓4与凸面法兰2相连。

本发明中,所述盖板3采用凸面管法兰盖的形式,以便与凸面法兰2相连。凸面法兰2和凸面管法兰盖都采用标准部件,可降低成本。

为防止地面积水进入清扫口并方便维护,凸面法兰2的底面距离地面0的距离A为50~100mm。

当排污管道5中流通的是放射性废水时,管状本体1可采用不锈钢管状本体,凸面法兰2可采用不锈钢凸面法兰,盖板3可采用不锈钢盖板,螺栓4可采用不锈钢螺栓。即这些部件应与其连接的放射性排污管道5采用不锈钢材质,并执行相同的施工要求。

本发明在应用过程中,应根据清扫口所连接的排污管道5的管径和排污管道5距地面的距离选用不同规格的清扫口,以满足使用需要。

当本申请的地面清扫口用于放射性排污管道的清扫时,所述不锈钢清扫口管径可采用以下常用的2种规格。具体是,若排污管5为管径DN50的特下水管时,不锈钢清扫口管径采用DN50的不锈钢清扫口,若排污管5为管径等于或大于DN100特下水管时,不锈钢清扫口管径采用DN100不锈钢清扫口。

实施例1

本实施例提供的是某核化工项目预埋在结构层里的低放射性排污管道的地面清扫口,如图2所示,排污管道的预埋深度D为400mm,管径C为DN100,采用管径B为DN100的不锈钢清扫口(即清扫口的管状本体1、凸面法兰2和盖板3等都采用不锈钢材质制成),不锈钢清扫口上的凸面法兰2的底面高出地面0的高度A为50~100mm。

本发明所述结构和部件尺寸并不限于具体实施方式中所述的实施例,本领域技术人员根据本发明的技术方案得出其他的实施方式,同样属于本发明的技术创新范围。

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