[发明专利]一种紫外防护镜片及制备方法在审
| 申请号： | 201510813567.5 | 申请日： | 2015-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN105293953A | 公开（公告）日： | 2016-02-03 |
| 发明（设计）人： | 訾云海;杨勇;鞠云祥;訾云旭;李莉;句红兵;荀涛;张宝福 | 申请（专利权）人： | 云南汇恒光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 650114 云南*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 紫外 防护 镜片 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种紫外防护镜片，包括玻璃基片，其特征在于玻璃基片上由玻璃基片向外交替镀有高折射率膜及低折射率膜，高折射膜层厚为10～30nm、低折射率膜层厚为25～50nm，高折射率膜及低折射率膜交替10～25次。
2.如权利要求1所述一种紫外防护镜片，其特征在于所述高折射率膜为二氧化钛膜、二氧化锆膜、二氧化铈膜中的一种或几种。
3.如权利要求1所述一种紫外防护镜片，其特征在于所述低折射率膜为氟化镁膜、二氧化硅膜、三氧化二铝膜中的一种或几种。
4.如权利要求1所述的一种紫外防护镜片，其特征在于制备方法包括如下步骤:
(1)待镀膜玻璃基片通过超声波清洗除去污渍并烘干；
(2)将待镀膜玻璃基片置于真空镀膜机真空舱内，在2.8×10-3～3.2×10-3Pa真空度下用离子枪轰击玻璃基片；
(3)在2.8×10-3～3.2×10-3Pa真空度、玻璃基片温度280～320℃下，用离子枪依次轰击镀膜材料，由玻璃基片向外交替镀制高折射率膜及低折射率膜，用真空镀膜机中的膜厚控制仪控制高折射膜层厚为10～30nm、低折射率膜层厚为25～50nm，交替镀膜8～25次。
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